二手 SAMCO RIE-10N #9014948 待售

SAMCO RIE-10N是一種利用反應性離子蝕刻（RIE）去除超精密材料的單室等離子體蝕刻工具。該設備的特點是占地面積小，蝕刻速率高，能夠處理大多數常規蝕刻應用，如光刻剝離、電介質去除、各向同性矽蝕刻等。RIE-10N可以處理各種基材，包括矽、石英、鋁和各種金屬化材料。該系統的設計效率很高，使用戶能夠在傳統系統所需時間不到一半的時間內完成所需的蝕刻過程。它還包含了為可重復、一致的結果創建的一步式配方以及直觀的圖形用戶界面。該工具具有一個源腔、一個抽水裝置和各種氣體輸送系統，用於控制保護性氣體的流動。它還包括用於生成等離子體的離子源、用於將離子引導到腔室的束加速器以及用於完成蝕刻過程的濺射源。機器可以配置各種等離子體蝕刻和濺射過程，包括感應耦合等離子體（ICP）和介電蝕刻。SAMCO RIE-10N為用戶提供自動校準等離子體參數等高級功能，以實現可重復的可重復性。它還具有自動調節功能,可實現停機和成本節約,同時還可最大程度地降低破壞性顆粒汙染的風險。其他功能包括用於優化反應性離子蝕刻工藝的自動選擇程序,以及用於清潔環境的雙壁室結構。RIE-10N配備了高精度的雙向驅動電動機,可快速、精確和可重復地移動工作臺,最大限度地減少帶寬,減少對腔室的意外損壞。它還利用高性能氣體輸送工具提供長期穩定和統一的結果。SAMCO RIE-10N的突出特點是先進的溫度控制，確保蝕刻過程在一致的溫度下進行，以實現優異的工藝重復性。這在加工光刻膠、聚酰亞胺和有機材料等細膩而具有挑戰性的材料時尤為重要。總體而言，RIE-10N是一個可靠可靠的蝕刻工具，保證可靠和均勻的蝕刻結果。它的所有功能協調一致,確保每次都能獲得準確和可重復的過程結果,使其成為高級蝕刻作業的理想解決方案。