二手 SAMCO RIE-200iP #9157972 待售
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SAMCO RIE-200iP是一種反應性離子蝕刻器（RIE），設計用於半導體化合物的幹蝕刻。它是一種蝕刻均勻性和可重復性較高的蝕刻器，適合廣泛的蝕刻應用。RIE-200iP是一個自給自足的系統，包含所有必要的組件，包括一個6 「x 6」的腔室、工藝氣體流線和一個噴射電源，以及計算機工具和一個開環控制系統。這個蝕刻器有一個6 「x 6」的腔室，其下部表面在真空處理時提供晶圓和電源之間的均勻間隙。這樣可以確保絕對蝕刻精度。氣體的壓力和流量可以根據蝕刻材料和所需的設計進行調整。這是由SAMCO pro3軟件控制的，它可以用來設置蝕刻的特定參數，如偏壓、工藝氣體的流速和溫度。SAMCO RIE-200iP還具有2級電源系統。第一級由電壓夾緊電路組成，使電源電壓保持穩定，從而在蝕刻過程中提供高均勻性。第2階段是E-gun，附有對焦鏡頭，允許離子的加速來增加蝕刻速率。此外，蝕刻器還具有主動電湧保護功能，避免觸電，並在操作過程中保護操作員。RIE-200iP還具有速度過濾器,旨在最大程度地減少狀態氣體和材料損壞。它能夠處理不同的氣體，如氯基等離子體、氟基等離子體和氧基等離子體。蝕刻速率可以輕松調整，使其成為滿足不同蝕刻需求的通用工具。總體而言，SAMCO RIE-200iP為蝕刻半導體化合物提供了高效、準確的環境。憑借其易於使用的設計、精確的蝕刻均勻性、高可重復性和浪湧保護，這款蝕刻器是一款適用於各種蝕刻應用的強大設備。
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