二手 SAMCO RIE-200iP #9244966 待售
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ID: 9244966
晶圓大小: 6"-8"
優質的: 2006
ICP Etcher, 6"-8"
Wafer transfer chamber
Tornado ICP high density plasma source
SAMCK'S Multi-zone exhaust system
Metal etching process kit for repeatable metal etching
Recipe storage and data logging
Footprint
Reaction gas
Produces stable and high density plasma
Multi-port vacuum system
ESC With active wafer temperature control (Helium backside cooling)
Use non-anisotropic etching of various bismuth films
2006 vintage.
SAMCO RIE-200iP是一種蝕刻器或粉碎器,用於通過將材料暴露於等離子體中從基板表面去除材料。等離子體是由射頻(RF)電源產生的,然後用它來創建一個容納底物的反應堆腔室。基板放置在電極上,RF電源連接到電極上。然後利用射頻功率產生強烈的電場,使等離子體反應堆室內的氣體電離。這會產生高能等離子體,用來蝕刻或粉刷基板表面。RIE-200iP能夠使用各種氣體,包括SF6、氧氣和氮。這些氣體可以用來蝕刻矽、石英、金屬,甚至有機材料。蝕刻或灰化過程在0.1至150毫巴的壓力下完成,溫度可達800 °C。這允許用戶在執行表面處理操作時達到高精度。射頻發電機能夠產生10 kHz至40 MHz的頻率,功率水平在0.1至300瓦之間。這為用戶提供了對蝕刻過程的完全控制,使他們能夠獲得最佳的表面光潔度。除了蝕刻和灰化,SAMCO RIE-200iP也可以用於沈積,如PECVD和濺射塗層。這是通過在等離子體反應器室內引入第二種氣體來完成的,除了用於產生蝕刻或灰化過程的氣體。這允許使用者在基板表面塗上一層薄薄的材料,可用於多種用途。RIE-200iP是一種可靠耐用的機器,可用於各種應用。其用戶友好的界面允許方便的設置和操作,使其成為任何蝕刻或灰化過程的絕佳選擇。它也具有很高的精確度和多功能性,具有使用多種材料的能力,並且在蝕刻或灰化過程中達到了很高的精確度。這使得它成為各種表面處理操作的理想選擇。
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