二手 SAMCO RIE-200IPC #9375019 待售

SAMCO RIE-200IPC是一種為各種半導體和電子器件設計的反應性離子蝕刻器（RIE）。它具有雙光束等離子體處理單元，應用範圍廣泛。用於氯氣、三氯化硼和氧氣等加工氣體，制造薄膜晶體管等微電子器件等器件。RIE-200IPC可用於蝕刻金屬、絕緣體和聚合物。這種蝕刻器具有0.1至4.0keV的寬離子能量範圍，0.2至8.0 mTorr的寬過程壓力範圍，10至400℃的寬卡盤溫度範圍，0.1至3.0 kW的寬功率範圍。該設備還具有高達200kHz的高功率輸入頻率。該蝕刻器配備了磁偏置系統和強大的LEF 32™計算機系統，用於蝕刻工藝的優化。SAMCO RIE-200IPC能夠提供高的蝕刻速率和均勻的圖樣，是精密微電子器件制造的理想選擇。先進的廣譜等離子體源是為降低粒子放電和提高蝕刻均勻性而設計的，控制系統便於對蝕刻參數的精確控制和易於調節。此外，先進的線性傳輸機器人和設計確保了高質量的樣品，允許過程的重復性。該蝕刻器能夠提供各種蝕刻工藝，如幹蝕刻、濕蝕刻、過度蝕刻和高長寬比蝕刻。蝕刻剖面高度依賴於工藝參數,包括氣體類型、壓力、功率水平和離子能量等。此外，蝕刻器的設計允許對材料的不同深度使用不同蝕刻參數的多步驟蝕刻工藝。該蝕刻器由於其精確的控制和額外的蝕刻過程，對於先進的MEMS設備制造特別有用。綜上所述，RIE-200IPC是一種多用途的蝕刻器，具有多種特點，如雙束等離子體加工機，氣體種類廣泛，工藝參數廣泛。可用於蝕刻不同材料，如金屬、絕緣體、聚合物等。此外，該蝕刻器可提供精密器件制造的各種蝕刻工藝，適用於MEMS器件制造。