二手 SAMCO RIE-212iPC #293587431 待售
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SAMCO RIE-212iPC是一種先進的反應性離子蝕刻（RIE）設備,可為多種材料提供高精度蝕刻。它用於在微機電系統（MEMS）、半導體器件制造、顯示器電池制造等廣泛應用中放大微納米結構。該系統是高分辨率蝕刻各種材料的高效、經濟高效的工具，如矽、氙、砷、鋁和具有出色蝕刻均勻性和精確度的聚合物。SAMCO RIE 212 IPC建有600毫米x 500毫米主室，用於大量蝕刻基材，200毫米x 150毫米側室，用於較小的晶片和樣品。其工作壓力範圍為50 mTorr至400 mTorr，包括一個內置的鈦吸塵器真空泵，提供0.1 mTorr或更高的極端壓力。蝕刻室采用不銹鋼制成，具有140 W加熱元件，溫度範圍為0-200 °C。該單元還采用數字車輪控制來設置蝕刻壓力、流量和時間。RIE-212iPC為具有超高分辨率和可重復結果的蝕刻提供了精確的解決方案。其特點是在基板的所有區域都具有精確的均勻性，殘留量低，並且增強了介電蝕刻。它使用先進的計算機機器來控制其所有功能，例如可以編程的蝕刻配方，以獲得準確和可重復的結果。它還包括一個帶有安全傳感器的氣體輸送工具和一個遙控墊。RIE 212 IPC非常適合那些尋求各種材料和應用的精確和可重復蝕刻的用戶。它的精確度和低度殘留物可以使拋光和整體光潔度更好。它也極易編程和操作，使其成為實驗室、研究設施和其他需要精確蝕刻解決方案的領域的絕佳選擇。
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