二手 SAMCO RIE-212iPC #9036931 待售
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ID: 9036931
ICP etching system, 8"
System type: cassette-to-cassette production
Active wafer temperature control (Helium backside cooling)
Electrostatic chuck for wafer clamping
Processing of multiple wafers possible using the tray cassette
Fully automatic operation using graphical touch panel screen
Data management and recipe management
Data logging is possible with use of an optional P
Application:
Low-damage etching of GaN, GaAs, InP for production of electronic and light emitting devices
Etching of ferroelectric materials for memory devices
High-speed etching for micromachine production
Currently operational
2009 vintage.
SAMCO RIE-212iPC幹蝕刻器是一種高性能工具，便於各種材料上廣泛的蝕刻應用。其廣泛的功能使其成為許多用途的絕佳工具,包括清潔、創建功能和蝕刻大面積區域。SAMCO RIE 212 IPC的腔室尺寸為6000厘米³能夠達到500攝氏度的溫度。它具有高精度的加熱器和嚴密的閉環溫度控制設備，允許用戶精確控制等離子體源的溫度。RIE-212iPC配備了一系列壓力控制器和氣體輸送系統。它可以在廣泛的壓力範圍內使用，允許你使用各種工藝氣體。RIE 212 IPC具有高壓、高流量的渦輪分子泵，確保了一致、可重復、可靠的蝕刻和高通量。SAMCO RIE-212iPC有三個雙源等離子體源模塊，允許您選擇最適合您特定蝕刻應用的模塊。它有一個防撞系統，防止損壞室壁、門封和室組件。SAMCO RIE 212 IPC具有一系列設計方便使用的功能，如直觀的控制界面、自動等離子體反沖以及充裕的樣品裝卸空間。它連接到一個復雜的基於PC的控制單元,以便於操作和遠程訪問。RIE-212iPC有一個高效的射頻動力機器，可以提供高達200W 13.56MHz的高質量蝕刻結果。它還具有高級自動調整工具,能夠快速設置蝕刻過程參數。綜上所述，RIE 212 IPC幹蝕刻機是一種廣泛材料蝕刻的理想機器。它具有高精度的溫度控制資產,能夠以最低的氣體使用量實現精確的蝕刻結果,而其壓力範圍、工藝氣體和源模塊為任何應用程序找到最佳設置提供了靈活性。其直觀的用戶界面和高效的射頻功率模型使其成為蝕刻應用的絕佳選擇。
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