二手 SAMCO RIE-331iPC #9395956 待售

SAMCO RIE-331iPC是一種用於半導體器件制造中電介質蝕刻的高級異步無功離子蝕刻器（RIE）。該蝕刻設備結合了高均勻性、精密控制蝕刻參數、可重現蝕刻輪廓以及能夠蝕刻多種介電材料等性能特點。可用於柵極氧化物的形成、接觸蝕刻、高長寬比蝕刻等各種半導體工藝。RIE-331iPC由真空室、氣體輸送系統和高精度等離子體源組成。腔室是一個垂直的矩形結構，能夠達到1 × 10-3 Pa的底壓，它有一個四針靜電卡盤，可以容納直徑達8英寸、厚度達20mm的基板。氣體輸送單元配有射頻發電機和用於控制氣體流動的氣體質量流量控制器。SAMCO RIE-331iPC中的分批加熱機旨在減少蝕刻周期中基板溫度的變化。RIE-331iPC通用的等離子體源使其非常適合用於各種蝕刻工藝。它具有高達300 W的可調功率水平，具有可變頻率、可變電極偏置和可調氣體成分。這確保了特定應用程序的最佳蝕刻條件。SAMCO RIE-331iPC還配備了先進的診斷工具，可以測量等離子體的均勻性、壓力穩定性和氣體使用情況。RIE-331iPC是一種先進的蝕刻資產，設計用於可靠的晶圓生產。其先進的氣體輸送模型和可調等離子體源提供精確的蝕刻控制。此外,SAMCO RIE-331iPC的批量加熱設備確保了均勻的蝕刻結果,診斷系統確保了精確的數據收集和控制。RIE-331iPC是一種用於介電蝕刻應用的強大而可靠的旋轉蝕刻器。