二手 SAMCO RIE-331LC #293766687 待售

SAMCO RIE-331LC是一種通用的反應性離子蝕刻器（RIE）和等離子體灰燼設備,設計用於半導體和MEMS制造的精確高效的蝕刻和灰化工藝。該系統配備了先進的功能，以高精度和可重復性方便各種流程。RIE-331LC的關鍵組成部分之一是它的射頻（RF）等離子體產生單元，利用高頻射頻電源產生一個可以指向底物的無功離子等離子體，用於蝕刻或粉刷過程。射頻等離子體源允許精確控制離子能量和密度，使機器在保持整個基板表面出色的工藝均勻性的同時實現高蝕刻速率。SAMCO RIE-331LC具有堅固的真空室和多個氣體入口，用於引入各種工藝氣體，包括蝕刻劑和反應物，以根據應用程序的具體要求調整蝕刻或粉碎器工藝。該工具還包括一個渦輪分子泵和一個幹泵，用於高效的氣體疏散和腔室清洗，確保清潔和穩定的工藝環境，以最佳的蝕刻和灰度性能。為加強工藝控制和優化，RIE-331LC配備了精密的氣流控制資產，可在蝕刻或粉刷過程中精確調節氣流速率和混合物。這確保了一致的工藝條件,使模型能夠實現高工藝重復性和均勻性,這對於實現半導體器件制造中的嚴格工藝公差至關重要。SAMCO RIE-331LC還配備了多功能基板處理設備，可容納各種基板尺寸和類型，包括矽片、玻璃基板和柔性基板，允許靈活處理各種不同外形規格的材料。該系統包括一個具有精確定位能力的電動基板級，以確保在蝕刻或粉刷過程中基板的精確對準和均勻處理。對於過程監測和控制，RIE-331LC配備了一系列先進的診斷和控制系統，包括實時等離子體發射光譜、端點檢測和過程配方管理軟件。這些功能使操作員能夠監控流程參數、檢測流程端點,並優化流程配方以提高流程控制和生產率。綜上所述，SAMCO RIE-331LC是為要求苛刻的半導體和MEMS制造工藝而設計的高性能反應性離子蝕刻器和等離子體灰燼裝置。憑借其先進的等離子體生成機、氣流控制能力、多功能基板處理工具以及全面的過程監控功能，該資產為實現各種應用中的精確、可重復的蝕刻和粉刷過程提供了可靠、高效的解決方案。