二手 SEZ / LAM RESEARCH 223 #293748588 待售

SEZ/LAM RESEARCH 223是一款高端幹蝕刻設備。它是一種生產級系統，設計用於蝕刻直徑最大為8英寸（200毫米）的晶片。該裝置旨在在包括矽、氮化矽、二氧化矽、碳化矽、氧化錫等工程材料的工藝材料中實現卓越的蝕刻性能和生產吞吐量。機器的蝕刻均勻性是蝕刻過程中達到的最高。該工具由一個主腔室和一個由兩個載荷鎖連接的傳遞腔室組成。主室配有兩個獨立的目標，用於幹蝕刻和灰化應用。轉運室設有兩個負載鎖，兩個機器人臂和一個子室，用於原位主室清洗。SEZ 223具有強大的多源、多頻、射頻發生器,可提供共濺射和雙處理功能。這些功能允許用戶優化蝕刻輪廓,以實現蝕刻形狀和控制的最高精度。多頻發生器還允許可調的過程控制,允許用戶撥入各種材料和蝕刻應用中的蝕刻速率和配置文件。此外，該資產設計為在非常低的壓力下運作。除了蝕刻功能外,LAM RESEARCH 223還具有先進的灰化功能,並具有選擇性幹灰化和均勻幹灰化選項。選擇性幹灰化使蝕刻模型能夠去除晶片表面薄膜和沈積物的局部區域，從而最大限度地提高工藝均勻性無金屬區域。均勻的幹灰燼使用均勻的工藝，在晶片表面形成均勻的沈積材料層。223還配備了負載鎖減壓設備，通過消除汙染提高了系統安全性和過程穩定性。RTP控制軟件通過強制低壓操作、高均勻性和更高的等離子體密度提供了先進的過程控制，即使在低加速能量下也是如此。該裝置具有良好的可重復性和最大的基板均勻性。總體而言，SEZ/LAM RESEARCH 223是一種先進的蝕刻和灰化機，適用於各種材料和工藝應用。該工具具有出色的蝕刻均勻性和先進的工藝控制。針對直徑最大為8英寸（200毫米）的各種工藝晶片和非常低的壓力,對資產進行了優化。該模型具有出色的可重復性和最大的基板均勻性，為用戶提供卓越的蝕刻性能和生產吞吐量。