二手 SEZ / LAM RESEARCH DV-38F #9022268 待售

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圖為 已使用的 SEZ / LAM RESEARCH DV-38F 待售
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已售出
蝕刻機/ 光阻清洗機
製造商
SEZ / LAM RESEARCH
模型
DV-38F
ID: 9022268
System, parts machine Position 1: LD, ULD Ports Robot (Transfer unit): RBT (RS-8240) Ionizer: Controller model 5024 Position 2: Buffer station Robot (Transfer unit): Dual ECO Gripper left/right Robot arm: Al anodized Ionizer: AeroBar model 5285 (e) Horiba HF monitor CM-210 Position 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9: PMR1-PMR4, PML1-PML3 Robot (Transfer unit): Rear machine handling - (Twin ECO gripper) Chamber material: PP Chamber shape: Ring type Chamber chuck material: PVDF / PETP / Stainless steel Robot arm: PVDF (Pins), PETP (Assembly) Chamber lower section: PP Chemical supply piping: PFA Drain piping: PVDF Chamber cleaning: DIW Ionizer: QuadBar 4630-DS ABB Protronic 500 Temp controller: in-line heater controller Position 10: PML4 Robot (Transfer unit): Rear machine handling - (Twin ECO gripper) Chamber material: PP Chamber shape: Ring type Chamber chuck material: PVDF / PETP / Stainless steel Robot arm: PVDF (Pins), PETP (Assembly) Chamber lower section: PP Chemical supply piping: PFA Drain piping: PVDF Chamber cleaning: DIW Trebor 110R Pump Entegris 0.03um Filter Quickchange disposable filter QCDYATMTF Housing Ionizer: QuadBar 4630-DS Position 11: CHC1L Chamber material: PP Chamber chuck material: PVDF / PETP / Stainless steel Robot arm: PVDF (Pins), PETP (Assembly) Chemical supply piping: PFA Drain piping: PVDF Siemens heater Almatec chemical drain pump Trebor 110R Pump Entegris 0.03um Filter Quickchange disposable filter QCDYATMTF Housing Levitronix BPS-3 process supply pump Position 12: CHC1L Chamber material: PP Chamber chuck material: PVDF / PETP / Stainless steel Robot arm: PVDF (Pins), PETP (Assembly) Chemical supply piping: PFA Drain piping: PVDF Siemens heater Almatec chemical drain pump Levitronix BPS-3 process supply pump Position 13: Chamber chuck material: Chuck drive unit Al - anodized Megasonic: Honda-Ultrasonic flow meter USF100A type 230 VAC, 1 P+N, 50/60 Hz Max current: 2 A Breaking capacity: 10,000 AIC Does not include chemical supply module.
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SEZ/LAM RESEARCH DV-38F是可用於半導體加工的最先進的等離子體蝕刻/分離器之一。是一種低溫、低功耗、高性能的蝕刻器/asher設備，可用於各種材料的材料沈積、蝕刻和平面化。該系統設計通用可靠，可實現精確等離子體控制和沈積速率優化。該單元由一個腔室、一個氣箱、一個電源、一個控制器和一個過濾機組成。腔室設計最多可容納六個晶片，使工具可以一次處理多個晶片。它還配備了隔熱蓋，保持室內內容在恒定的溫度。氣體箱提供加工晶片所需的氣體，包括蝕刻和沈積所需的反應性氣體。該電源用於產生能夠精確控制離子轟擊能量的高頻等離子體。控制器從整個資產中收集數據，並調整氣流和功率設置，以獲得最佳的等離子體蝕刻和沈積。最後，過濾模型過濾廢氣，確保清潔操作。經濟特區DV-38F為蝕刻和沈積提供準確的過程控制，以及各種各樣的定制和過程優化選項。它能夠處理平面結構和三維結構，在多個晶片上具有很高的均勻性。該設備非常適合各種材料，具有低溫要求和低功耗水平。此外,LAM RESEARCH DV-38F還具有一個用戶友好的界面,具有遠程訪問和自我診斷功能,便於設置和持續監控。系統還有一個即時反饋單元，提供進程本身的實時數據。因此,DV-38F是任何尋找可靠且經濟高效的蝕刻機/粉碎機的半導體制造或研究設施的完美解決方案。
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