二手 SEZ / LAM RESEARCH RST 201 #9228278 待售

SEZ/LAM RESEARCH RST 201 蝕刻器/asher是一種自動化真空設備，設計用於執行半導體晶片的蝕刻、切割和塗抹過程步驟。SEZ RST 201系統使用下遊等離子體源，使廣泛的材料可以以高可靠性、均勻性和可重復性進行處理。加工室采用不銹鋼建造，內部容積8立方英尺。環境單元壓力由兩個300 sccm渦輪分子（TMP）泵保持在10-6 torr，在泵進氣口形成壓差。LAM RESEARCH RST 201還包括一臺混合鎖荷機，能夠快速撤離鎖荷室，在裝卸物料時繞過主泵。此外，該工具還包括一個化學源噴射器、四個各向異性蝕刻模塊，以及一個提供晶圓蝕刻粗糙度實時監測的在線光電二極管監測器。在RST 201資產上可實現的工藝包括氧化物蝕刻和條帶、氧化矽條帶、化學機械拋光、深層反應性離子蝕刻（DRIE）、切割、剝落和塗抹。通過利用射頻等離子體源，模型能夠以高精度蝕刻各種材料，同時提供幹凈且高度均勻的側壁。化學源噴射器有助於輸送蝕刻過程所需的化學前體，而四個各向異性蝕刻模塊提供必要的橫向過度蝕刻，以產生光滑且成角度的輪廓。SEZ/LAM RESEARCH RST 201兼容多種晶圓尺寸和材料，使其成為蝕刻和加工半導體晶圓的理想工具。該設備還具有用戶友好的圖形用戶界面（GUI），簡化了系統的設置和操作。該設備經過CE認證,提供卓越的精度、一致性和可重復性,以及較低的刀具停機時間。