二手 SEZ / LAM RESEARCH SP 201 #9174299 待售

SEZ/LAM RESEARCH SP 201是一種等離子體蝕刻器/asher設備，設計用於生產高質量的薄膜工藝。該系統能夠處理各種基材，包括鋁、銅、多晶矽、鎳和其他通常用於先進微電子器件制造的材料。SEZ SP 201利用標準蝕刻化學技術，如反應性離子蝕刻（RIE）、化學氣相沈積（CVD）和離子植入技術。該裝置還配備了先進的基於光學的晶圓對準機，確保了對工藝幾何形狀和輪廓的精確控制。LAM RESEARCH SP201可以配置多個晶圓室和不同過程的室,從而允許在生產環境中進行多任務處理。此功能允許工具在不增加資產硬件需求的情況下完成更復雜的任務。SP 201的腔室壓力使用一系列閥門和真空泵維持。真空壓力由精密量表監控，模型能夠在晶圓上產生10-5 Torr左右的真空壓力。SP201利用含有惰性氣體的氣體混合物，如氙氣或氮氣，以及氧氣或氟氣等反應性氣體。通過建立合適的氣體質量流速，可以獲得所需的蝕刻深度。氣體通過質量流控制器實時監測，確保蝕刻過程的正確速率。晶片在蝕刻時保持在高負偏置下。晶片放置在ElectroStatic卡盤上並固定,以便在蝕刻過程中不產生振動。最後，LAM RESEARCH SP 201包含一臺高功率射頻發生器，產生高水平的射頻能量。這種電能用於產生蝕刻反應所需的等離子體。通過控制發電機的功率水平和脈沖寬度，可以保持對蝕刻過程的精確控制。最後，SEZ/LAM RESEARCH SP201是一種先進的蝕刻/粉碎機設備，設計用於生產高質量的薄膜工藝。該系統非常適合生產環境，可控制蝕刻深度、精密晶片對準和腔室壓力。該機組使用惰性和反應性氣體、ElectroStatic Chuck和大功率射頻發生器進行有效蝕刻。