二手 SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9206214 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9206214
晶圓大小: 8"
優質的: 2002
Spin etcher, 8"
Indexer type: 200 mm
Handling type: FS/BS
Main unit: SMIF
Heating system: RT to 65°C
CDS System: With buffer station
Standard pin chuck: 200/200/200
SMIF Type: 200 mm
End effector
ECO Gripper loaded / Unloaded
Robot system
Media flow meter
DI Flow meter
Pressure regulator for N2 & CDA
Exhaust system up
Suction nozzle
Heater exchanger (HEX) for Med 1, Med 2
Mini-environment with FFU
DI & N2 Filter set
Power distribution box
Standard PC for SP203
Status lamp (RYGB)
Buzzer
Chemical dispense system:
Chemical cabinet with flexible filling
Chemical control cabinet
Temperature: Medium 1 / for Ti/TiN chemistry
Temperature: Medium 2 / for Al chemistry
Chemical control cabinet
Options:
Transformer
UPS
Standard chuck
Ionizer
N2 MFC
Concentration monitor
Not includes:
Megasonic
Under cut rinse
CO2 Injection
Endpoint detection
IR Dry lamp
Maximum voltage: 230 ~ 380 V
CE Marked
2002 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH SP 203是一種高性能蝕刻/灰分設備，具有可調氣體配方，專門設計用於提高各種反應性離子蝕刻和灰分工藝應用的吞吐量。該系統具有獨特的工藝室設計，提供了一個非常大的氣體量，以確保一致的氣體輸送和均勻的等離子體密度。SEZ SP 203還可以加工尺寸最大為25英寸的基板，最多有10個氣體通道進行多次蝕刻。該裝置還包括先進的診斷能力，使用戶能夠監測選定的等離子體參數，並對腔室環境進行實時調整，以便進行準確的過程控制。它還具有先進的有源離子密封特性，提高了工藝的可重復性，消除了手動屏蔽的需要。機器上的過程控制選項是健壯的，包括獨立調制離子源、基板偏置和腔室溫度的能力。利用此功能,用戶可以對工藝進行精細調整,以優化其特定材料和工藝條件的結果。該工具還提供手動和自動控制,以幫助簡化資產操作。LAM RESEARCH SP 203是一個全面的蝕刻/灰分模型，能夠處理各種材料。其先進的診斷、可調氣體配方、精細可調的工藝參數，使其成為介電和金屬蝕刻、灰化、變薄、薄膜沈積等多種應用的理想選擇。它是各種半導體元件制造中提高吞吐量的有效解決方案，如內存芯片、微控制器、顯示驅動器和其他半導體器件。
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