二手 SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9228170 待售

SEZ/LAM RESEARCH SP 203是一種先進的RIE（反應性離子蝕刻）蝕刻設備，設計用於生產和開發復雜的表面微機械結構。這種通用的蝕刻系統幾乎能夠蝕刻任何表面，包括硬質和軟質材料。它具有先進和高效的高級等離子體源（APS），由強大的氣體和兩個獨立的原子源混合而成，使其能夠同時進行各向同性和各向異性蝕刻。另外，SEZ SP 203配備了強大的電子回旋共振（ECR）源，在蝕刻過程中提供了非凡的均勻性和選擇性。LAM RESEARCH SP 203是對多種材料進行高精度蝕刻的理想選擇，包括但不限於半導體材料如Silicon, Gallium Arsenide, SiC, GaN, InGaAs,以及電介質如二氧化矽,氮化矽,聚酰亞胺,聚矽,玻璃。這種先進的蝕刻裝置也可用於蝕刻鋁、鈦等金屬，以及用於生產MEMS（微機電系統）裝置的其他材料。該機配備了最先進的灰燼密封過濾器工具（ACFS），用於蝕刻廢物密封和過濾。這種高效的ACFS提供了改進的蝕刻操作,減少了環境占用、降低了成本並改進了過程控制。SP 203還能夠通過高級流程控制器和監控資產進行流程控制。這種先進的監控模型可以用來監控和分析蝕刻設備的性能。SEZ/LAM RESEARCH SP 203還配備了用戶友好的液晶觸摸屏用戶界面，用於簡化操作和調整蝕刻參數。此外,此高級蝕刻系統與ESISEZ軟件兼容,允許用戶監視和控制蝕刻過程的各個方面,並分析該過程的結果。SEZ SP 203具有先進的等離子體源、堅固的ACFS廢棄物過濾裝置、高效的過程監測機、用戶友好的界面，是微加工結構生產開發的理想蝕刻工具。