二手 SHIBAURA BM-1400PC #190674 待售
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ID: 190674
晶圓大小: 8"
Photo Catalyst (Hydrophilic Mirror) Sputtering System, 8"
Specifications:
Single-wafer load lock
Supports wafers up to a maximum of 8"
(5) processing chambers (Sio2: 2 layer, Tio2: 2 layer
Inverse sputtering with our original cup gun method
Heating unit included
Wafer size is 265 mm, Effective real coating diameter is 248 mm
Coating uniformity: ±4%
Vacuum pump: TMP (Turbo Molecular Pump) and Rotary Pump
Mass flow control: MFC and Flow check
Main configuration:
Sputter Chamber: SiO2 + TiO2 + Sio2 (Total working chambers: 6)
Heating Chamber, Loading, unloading, Control panel, Utility Gauge, Panel, Emergency Button
Sputtering chamber configuration:
Cooling Plate
Magnet
Target: Reactive magnetron, Oxygen
Sputter Chamber
Heating chamber configuration:
IR lamp heater
Upper and lower heater
Control panel:
Main breaker
Emergency SW
Interlock release Plug
Vacuum gauge
Pirani Gauge (1, 2, 3; H, M, Low vacuum check)
Bourdons Vacuum Gauge
Pulse generator:
Power Supply: DC: 16 ea
Power Breaker: 16 pcs.
SHIBAURA BM-1400PC是玻璃、金屬、塑料等材料的高精度蝕刻器，旨在滿足最大、最復雜項目的需求。BM-1400PC具有獨特的高精度陣列功能,非常適合最特殊的細節作業。它具有現代組件、內置軟件、傳感器和自動化功能。結合精確的工作流管理功能,SHIBAURA BM-1400PC是創建獨特而復雜的模式的無與倫比的解決方案。BM-1400PC由堅固的鍍金基板構成，與先進的晶圓加工系統相連。反應室極為穩定，在整個加工周期中提供了非常一致的環境，進一步提高了蝕刻精度。其先進的溫度和流量控制系統提供一致的結果，可以滿足低熱和高熱應用的要求。其風冷基板，加上其自動化和軟件，允許更少的化學和更高質量的蝕刻。SHIBAURA BM-1400PC與大量化學蝕刻劑兼容，能夠調節包括蝕刻劑濃度、流體流量、溫度和pH等參數。它還設計了安全系統，確保蝕刻過程中的最大安全。該機器還提供高效的工作流調度、閑置時間和資源管理以及數據收集和分析。此外，BM-1400PC能夠進行RIE（反應性離子蝕刻），並為不同的蝕刻結果（如沈積、蝕刻、電源、氣體等）支持廣泛的氣體選擇。該機采用全彩10.4英寸液晶顯示屏,並提供多種配件,包括不銹鋼機櫃、冷卻分析系統和其他組件。總體而言,SHIBAURA BM-1400PC是一款健壯、先進的蝕刻器和asher,非常適合在多種材料上創建復雜的圖案。它能夠提供精確和可靠的結果，有助於確保項目達到盡可能高的標準。
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