二手 SPI Plasma Prep II #293617060 待售

SPI Plasma Prep II是一款蝕刻器/asher，設計用於在半導體器件制造、制藥制造、現場分析、研發等多種應用中對樣品進行精密蝕刻或灰化。此設備的多功能性確保它能夠滿足各種蝕刻/ashinig應用程序的需求。該設備由高功率射頻發電機、等離子體室、液體冷卻系統、真空泵和自動化過程控制器組成。該裝置的設計是為了在每次蝕刻或灰化過程中提供最大的重復性和準確性。該設備采用安全協議和功能,如隔離射頻連接和安全門互鎖,可防止意外暴露於危險的高射頻水平。高功率射頻發電機提供驅動蝕刻和灰化過程的能量。等離子體發生器具有調制0-500瓦功率輸出的能力。等離子體發生器的頻率也可以很容易地調整，以滿足特定蝕刻/灰化方向的需要。蝕刻/灰化樣品放置在等離子體室內。該腔室設計用於保持樣品的穩定壓力環境，並包含產生的等離子體。該腔室具有一個大的查看端口,允許用戶目視觀察蝕刻/灰化過程。腔室被液體冷卻機包圍，該機可消除廢熱並保持工具的安全運行溫度。資產的真空泵負責清除不需要的顆粒，以及消散等離子體過程產生的氫和氧。此功能使模型能夠清晰高效地運行,並最大限度地提高蝕刻/灰度精度。自動化的過程控制器允許用戶輕松編程所需的過程蝕刻/灰化參數。它旨在與腔室和等離子體發生器通信，以提供準確的過程反饋，以確保最大程度的重復性。Plasma Prep II是一種可靠而堅固的設備,設計用於各種應用中的樣品精密蝕刻和灰化。它具有先進的安全協議、高功率射頻功能、穩定的壓力環境、先進的冷卻系統、高效的真空泵和自動化的過程控制器。該裝置高度可靠，是各種蝕刻和灰化工藝的理想選擇。