二手 SPTS LPX APS Pro #9294793 待售
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已售出
ID: 9294793
晶圓大小: 8"
優質的: 2014
Etcher, 8"
Single chamber (Aluminium)
Load-locked
Capable, 8"
Process chamber: APS PM
APS PM Chamber:
SiC / GaN
Oxide
Nitride
Deep oxide
Glasses
Sapphire
PZT / Pt
LPX Single Wafer Load Lock
Multiplex ICP process chamber:
Magnetic and heated chamber
LEYBOLD Turbo pump
Heated VAT pendulum valve
Backside helium cooling
Extracted gas box with orbitally welded gas lines
Electronics Rack
LCD flat panel monitor
MKS Capacitance manometer (0.1 Torr)
MKS Spectrum RF generator (Source)
MKS Spectrum RF generator (Bias)
VERITY optical endpoint detector
EDWARDS iH80 vacuum pump (or equivalent)
ALCATEL ACP28 vacuum pump (or equivalent)
SMC Thermo chiller
System cables
Gas box: N2, SF6, He, Ar, O2
Operations manuals
Electrical drawings
Documentation (Complete manual set)
System power: 400 V, 80 A, 50 Hz, 3 PH+N
2014 vintage.
SPTS LPX APS Pro是專門為研究和工業應用而設計的先進晶圓加工蝕刻和灰化設備。該系統由一個先進的SmartProcess™平臺組成，具有前端裝卸以及現場過程控制和監測方面的最新技術。該設備設計得非常可靠、快速、高效,提供出色的用戶友好性、可擴展性和靈活性。其主要特點包括：高蝕刻和灰化效率--該機配備先進的等離子體發生器和先進的氣體混合系統，對蝕刻和灰化過程提供卓越的精度和控制。這允許用戶通過更少的叠代和更短的處理時間來獲得更好的吞吐量。SmartProcess™平臺-該工具配備了高級流程自動化平臺,允許用戶自定義其流程參數和設置。這使用戶能夠根據自己的特定需求優化資產,並最大限度地提高效率和性能。現場過程控制和監視-該模型配備了強大的過程監視設備,可對蝕刻和灰化過程進行實時監視和控制。這允許用戶快速識別任何潛在問題並相應調整其流程設置。多功能性-該系統用途廣泛,可用於不同類型的晶片,如矽、絕緣子上矽（SOI）、外延和砷化氙（GaAS）。此外,該單元還可用於廣泛的應用,如光刻、深反應性離子蝕刻（DRIE）和離子銑削。易於使用-計算機具有直觀的用戶友好界面,允許用戶快速輕松地設置流程。此外,該工具還包括全面的文檔和培訓材料,使用戶能夠快速輕松地掌握資產。高精度工程-該模型采用高精度工程設計,具有卓越的精度和控制能力。此外,它還設計用於延長使用壽命和降低維護成本。可擴展性-設備采用模塊化組件設計,可輕松配置以創建更大、更復雜的蝕刻和灰化系統。總體而言,LPX APS Pro是一個先進的蝕刻和灰化系統,它結合了尖端技術和高精度工程技術,以實現最佳的效率、性能和準確性。它既適用於研究，也適用於工業應用，設計為高度可靠、快速、易於使用。
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