二手 STS / CPX MESC Multiplex #9261950 待售

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ID: 9261950
晶圓大小: 4"-6"
優質的: 2000
ICP Etcher, 4"-6" With Silicon and Poly-Si Wafer material: Quartz, Si, glass Process gas: SF6, O2 Etch rate: 1µm ~ 5µm / Minutes Missing parts: Turbo pump Dry pump Chiller Power supply: 208 V, 80 A, 60 Hz, 3 Phase 2000 vintage.
STS/CPX MESC Multiplex是一種先進的蝕刻器/asher技術,使用戶能夠對各種樣品上的微小復雜圖樣進行精確而復雜的蝕刻和灰化。STS MESC Multiplex使用高功率集中能量源(主要是等離子體),從表面去除材料而不損壞底層。作為一種蝕刻器,這種技術使用離子中和程度不同的等離子體來選擇性地蝕刻和繪制所需的特征,而不會損壞底層或底層。CPX MESC Multiplex是一系列通用的多合一技術,旨在滿足通用ashing、RIE和蝕刻工藝最苛刻的要求。其獨特的設計和多功能性使用戶能夠準確調整和控制蝕刻過程,從而產生最佳效果。MESC Multiplex的控制包括可變功率PD源、可調功率以及可調氧化物和氮化物層。此外,這項技術還具有防渣、抗反射以及抗還原操作的特點。此蝕刻/灰化工具提供了廣泛的處理功能,以滿足要求最苛刻的應用程序的要求。STS/CPX MESC Multiplex可提供高精度和無與倫比的控制,從纖維層的快速蝕刻到厚金屬膜的選擇性蝕刻。集成的軟件和硬件技術STS MESC Multiplex使用戶能夠在各種材料中創建復雜的模式。適應性和可調性參數優化了各種材料的蝕刻工藝。CPX MESC Multiplex的設計達到了盡可能高的標準,並提供了最高的安全條件。緊湊的設計允許在潔凈室以及所有其他敏感生產領域方便安裝和使用。內置的安全功能確保您昂貴的生產線在灰泥和蝕刻過程中不會有損壞的危險。MESC Multiplex除了具有許多功能外,還附帶了EasySet軟件,用於獨立於PC的操作和數據管理。這種直觀的軟件簡化了實驗的設置,允許您集中訪問、保存和管理所有數據。靈活的平臺還允許便攜性,非常適合在不同的位置使用。STS/CPX MESC Multiplex是一個完美的整體蝕刻/灰化解決方案,適用於那些尋求具有豐富功能的可靠和精確蝕刻工具的用戶。該技術提供精確、高效和控制,同時促進環境安全和提供卓越的效果。
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