二手 STS / CPX Multiplex ASE ICP #9147808 待售

STS/CPX Multiplex ASE ICP（電感耦合等離子體）是一種用於生產和制造集成電路芯片（IC）和其他微電子器件或元件的蝕刻器/灰化器。它是一種高精度的微型制造工具,用於在半導體表面（如銅或金散熱器）上創建超精細特征。STS Multiplex ASE ICP通過在真空室或工藝室內電離合適的氣體來工作。這種氣體通過室內的感應而被電離，從而從氣體粒子中產生等離子體。此等離子體隨後被用於從目標基板上蝕刻或「蝕除」小的精確特征。ICP技術可用於各種應用，包括：半導體表面上元素的精確圖樣、分段結構中的通氣和接觸的平面化、絕緣體層的蝕刻和精確的銅種子層圖樣。CPX Multiplex ASE ICP具有廣泛的特性，使其成為許多微加工工藝中有吸引力的蝕刻器/asher選擇。該蝕刻器具有較高的生產精度，單晶片蝕刻反向速率高達500 nm/秒，分辨率為0.25 μ m。它配備了具有16位可編程分辨率的高度精確、多軸掃描設備，可以在x-y和z-axes中實現復雜幾何形狀的精確特征陣列。該工具與各種晶圓尺寸和材料具有兼容性，包括石英、矽、鋁和GaAs基板。再者，它也配備了真空銳化系統，它允許一個精密的蝕刻過程與最小化的過程時間。這使得Multiplex ASE ICP成為高性能和高通量批處理過程的理想選擇。總之，STS/CPX Multiplex ASE ICP是一種能夠實現高精度特征蝕刻和灰化的高精度工具。其廣泛的特性和應用兼容性使得它成為許多半導體制造工藝的理想選擇。其高精度的掃描單元和真空銳化機也是使該工具成為微加工工藝可靠高效選擇的關鍵特征。