二手 STS / CPX Multiplex ASE #9118795 待售

STS/CPX Multiplex ASE是一種先進的asher/etcher，旨在在半導體制造工藝及相關應用中提供高效可靠的氮氧等離子體蝕刻。它是一種單室設備，能夠使用氮（N）或氧氣（O）氣體進行反應離子蝕刻（RIE）。該系統適用於小批量和大批量生產，提供卓越的性能、準確性和可重復性。該單元由一個排空過程室和一個外部安裝的射頻發電機組成，可提供高達6000瓦的功率。它是用一個分離的射頻發生器建造的，這有助於保持不同類型和直徑的晶片上均勻的蝕刻特性。射頻發生器還能夠提供高達1000伏的電壓,使其能夠在更高的壓力（最高5 torr）和更高的蝕刻速率下運行過程。STS Multiplex ASE包括一臺通用性氣體噴射機，流量範圍為0至300 ml/min，使其能夠處理幹式和濕式蝕刻。該工具能夠處理所有標準蝕刻化學，如CF4、CHF3、C4F8、CH2F2、Ar、He和SF6。其氣體輸送效率極高、經濟，浪費最少，無化學汙染。CPX Multiplex ASE配備了集成的數字壓力控制器，使用戶能夠精確控制腔室壓力。它還具有內置的高精度溫度控制資產,可確保樣品溫度在處理過程中保持穩定和準確。自動數據記錄功能記錄所有相關的過程參數,如氣體流速、腔室壓力、電壓水平和樣品溫度。這確保了工藝條件的可追蹤性和可重復性。最後，一個獨特的腔室「視圖」功能讓使用者可以從單元外看到腔室的內部，更容易檢查腔室和取樣條件。該型號還設計為與大多數外圍硬件兼容，如真空泵、射頻發電機、溫度控制器等。綜上所述，Multiplex ASE是一種先進的半導體基板等離子體蝕刻技術。它是一個集成的單室設備，具有通用的氣體註入系統，高精度的溫度控制單元，數據記錄，以及易於使用的用戶界面。適用於小批量和大批量生產，是半導體制造工藝可靠、經濟的選擇。