二手 STS / CPX Multiplex ICP #293619106 待售
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STS/CPX Multiplex ICP是來自Applied Materials的一種最先進的大型蝕刻器/asher設備。它是一個完全集成的多束系統，集成了離子源、磁光構型和高精度沈積平臺，用於精確的結晶膜深度控制。該裝置配備了雙離子源，能夠處理從的一系列材料，從到的的移動移動。雙源允許同時蝕刻兩層，實現比單一源更精確的蝕刻輪廓。它還提供各種蝕刻氣體，從而能夠處理各種材料。離子束可以高精度聚焦到現場，既能實現高質量的蝕刻輪廓，又能實現低缺陷率。基板支架設計為基板沈積的精確控制提供了一個穩定的平臺。該機采用高功率的磁光結構，具有可調的磁力，允許極其精確的蝕刻輪廓和精確的結晶膜厚度控制。此工具可精確控制蝕刻輪廓以及高達800 nm/min的蝕刻速率。高功率可以精確控制離子束參數，包括離子能量和範圍、束直徑和掃描速度，從而提高過程控制。另外，角度色散限制裝置有助於減少二次離子散射的不利影響，並確保蝕刻特征的精確形狀。STS Multiplex ICP具有先進的等離子體控制功能，允許資產在低原位殘留氣體壓力下達到超高真空率。該模型還提供了一種創新的安裝在天花板上的等離子體控制器，從而提高了可重復性並簡化了配方開發。最後，該設備配有一個全面的集成軟件包，其中包括一個建模工具包和一個用戶界面。建模工具包可幫助工程師優化蝕刻過程,而用戶界面有助於快速編寫和執行流程。它還允許對許多不同的材料和基材進行單配方加工。CPX Multiplex ICP是任何工業或研究應用的理想蝕刻器/asher。該系統采用雙離子源、先進等離子體控制和高精度沈積平臺，對蝕刻速率和特征幾何形狀進行精確控制，非常適合要求最苛刻的蝕刻工藝。
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