二手 STS / CPX Multiplex ICP #9185200 待售
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單擊可縮放
ID: 9185200
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
Dry etcher, 8"
BOSCH Process
Handler
Chiller
Turbo pump
HF Generator
Carousel vacuum load lock
With ICP SR / HR process chamber
Pumps: No
EPD: No
Lower electrode PSU: No LF
Wafer flat size: Other
Clamp: WTC
Gas box: Mini
ASE Requirement: Switched licence
Voltage: 400V
Gases:
C4F8 100 sccm
O2 100 sccm
Ar 100 sccm
He 100 sccm
SF6 100 sccm
Multiplex ICP process chamber (MESC)
ICP 240BF Source
RF Supply: 1 kW (13.56 MHz)
Matching unit for ICP source
Generator: 5 kW
RF Supply: 300 / 30 Watt (13.56 MHz)
Matching unit for lower electrode
Electrode temperature control: +5 to +40°C
Mechanical wafer clamping electrode (Pin lift)
With backside cooling
LEYBOLD Turbo pump MAC 2000
Standalone VDU
Keyboard
Mouse
SOI Kit: No
CE Marked
1999 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP是一款先進的蝕刻/asher設備，利用多個單獨的工藝來實現金屬零件的高精度微加工。該系統由一個感應耦合等離子體源（ICP）和一個復用RF發生器組成，能夠按順序發射多個ICP源。ICP源配置為RF發生器在四個同步循環中發射,從而在腔室的大範圍內提供連續的高功率等離子體流。ICP源具有廣泛的頻率範圍，允許復雜的模式控制和更精確的表面蝕刻速率。ICP源還能夠蝕刻更深的金屬和塗層表面,並具有最小的變形和高產率。多路復用射頻發生器包含多個通道，每個通道都能夠向ICP源傳遞高功率脈沖。這提供了靈活的蝕刻環境以及極其均勻的蝕刻速率。多路復用射頻發生器還允許ICP源之間的精確定時，使它們能夠同步發射並最大化過程吞吐量。STS Multiplex ICP蝕刻/灰分單元已經被證明能提供高品質的薄膜沈積和各種金屬基板的蝕刻，包括銅、鋁、鎳和鋼。該機還能夠蝕刻復雜的圖案和高精度的表面。此外，該工具還可用於使用金屬粉末顆粒或碎片膜制造3D打印元件。CPX Multiplex ICP是一種用途廣泛且可靠的蝕刻器/asher資產,能夠為各種過程提供高質量、一致且控制良好的結果。它是一個可靠的解決方案，既適用於微加工，也適用於3D打印應用，可用於金屬和其他材料的高精度蝕刻。
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