二手 STS / CPX Multiplex ICP #9186435 待售
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STS/CPX Multiplex ICP是一種蝕刻器/灰化器，或一種使用XeF2和CF4反應性氣體蝕刻或「燃燒」目標區域從基板上清除的設備。它專為深度反應性離子蝕刻（DRIE）或深度反應性離子灰化（DRIA）而設計,其小尺寸尺寸可達150納米。STS Multiplex ICP作為一個單元同時執行蝕刻和灰度處理,具有很高的準確性和可重復性。它利用CF4和XeF2氣體混合物，將其輸送到系統的蝕刻室或灰化室。腔室保持加壓並充滿氣體混合物，並使用高功率感應耦合等離子體（ICP）激發所得等離子體，使其蝕刻或粉刷底物。CPX Multiplex ICP具有多項優點。蝕刻率高，材料損耗低，表面均勻度高。它能夠蝕刻各種材料，包括矽、氧化矽、石英和玻璃。此外,該單元設計用於深度可達150 nm的深層蝕刻,並且是可擴展的,這意味著可以在需要時添加額外的蝕刻或灰化室。機器也是用戶友好的，可以設置在幾分鐘內蝕刻或ashing。該工具允許調整蝕刻和灰化時間、功率級別和氣流設置,允許用戶根據需要微調蝕刻或灰化過程。資產的軟件界面還為用戶提供了實時監控蝕刻或灰化結果的能力。總體而言，Multiplex ICP是一種易於使用且高度精確的蝕刻器和asher模型，能夠進行深度蝕刻和灰化，具有高度的可重復性和可重復性。該設備適用於矽、氧化矽、石英、玻璃等基板的深蝕刻和灰化，具有可擴展的附加優勢。
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