二手 STS / CPX Multiplex ICP #9243850 待售
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單擊可縮放
ID: 9243850
晶圓大小: 6"
優質的: 2001
Plasma etcher, 6"
ICP Process chamber
Chamber
Coil RF generator and matching unit
Electrode RF generator and matching unit (Platen)
Phase shift controller
VAT Isolation valve
Turbo pump
EDWARDS QDP40 Dry pump
Gas box
Cluster multiplex Prime Power Distribution (PPD) cabinet
Process chamber electronics
Materials processed: Si, SiO2, Al2O3, Ta, Ti
Process gases: CF4, SF6, Ar, O2, H2
Missing parts:
(2) Control modules
Exhaust pipe
Matching box
MAG / Phase detector
Load port
Power supply: 208 VAC, 60 Hz, 8.32 kVA, 3-Phase
2001 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP是牛津儀器公司為各種半導體制造和實驗室應用而設計的最先進的蝕刻/asher設備。該系統由一個專有的蝕刻反應堆和相關的計算機控制和軟件構成。STS Multiplex ICP單元提供比市面上其他蝕刻系統更高的速率蝕刻，同時保持蝕刻輪廓和特性的必要控制和統一性。CPX Multiplex ICP機具有微波誘導等離子體（MIP）。MIP技術被證明是所有蝕刻系統中最統一的蝕刻。MIP工具產生極均勻的基板輪廓和特性，極低的離子轟擊以及提供高重復性。該資產旨在容納EF或直流電源,從而在應用程序過程中提供更大的靈活性。多重ICP模型還包括允許用戶自動化蝕刻過程的軟件。軟件提供了在蝕刻過程中可以控制的多種參數，包括蝕刻時間、壓力、溫度和流量。此外，設備還采用了一個關斷閥，確保在工藝完成後蝕刻停止。這樣可以精確控制蝕刻過程並提高產品產量。STS/CPX Multiplex ICP設計用於各種實驗室和生產應用，如溝槽隔離蝕刻、層壓、細線金屬化以及通過蝕刻等。它還提供了一個手套箱選項來處理腐蝕性氣體。STS Multiplex ICP是一種高度通用的系統,可根據特定的蝕刻和沈積要求進行定制。該裝置提供一貫的高品質蝕刻型材,低離子轟擊,確保最佳設備性能.利用最新的數字技術和軟件，用戶可以編程一個無人值守運行的過程，使其簡單的蝕刻高品質的基板具有非凡的均勻性和可重復性。
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