二手 STS / CPX Multiplex ICP #9303047 待售

ID: 9303047
晶圓大小: 6"
優質的: 2005
Al Etcher, 6" Pressure controller: VAT PM-7 65046-PA52-AJAI/0016 Gas module: Chamber: CL2 50SCCM HBR 50SCCM Ar 50SCCM CF4 100SCCM O2 50SCCM O2 20SCCM (2) RF Generators: ENI ACG-3B 13.56 ENI ACG-10B-07 Chiller: AFFINITY RWA-012L-CE35CBD4 STS Turbo pump: LEYBOLD MAG 1500CT Dry pump: EDWARDS iQDP80 Missing parts: P/C (Computer) VAC 1 / 3 / 4 Controller A.M.C 1A Controller 2005 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP是一種用於等離子體工藝應用臨界控制的精密蝕刻和灰化設備。該系統最適合深蝕刻、高長寬比樣品和介電堆棧以及納米光刻任務。STS Multiplex ICP已被證明是疏水性結合塗層抗蝕刻、反側氧化物去除、碳面膜蝕刻和選擇性SiO2蝕刻的最佳解決方案。其豐富的功能也使其成為焊料掩模、FEOL介電材料、納米加工、多級MEMS和BioMEMS封裝應用等離子體蝕刻和灰化的絕佳選擇。在物理特性方面,CPX Multiplex ICP是一個高速、全區域的單元,配備了先進的過程監控工具。設計用於優化能量頻率控制、多功率發電機、多級抽取功率控制和嵌入式PC控制器。其先進的工藝控制機使復雜而均勻的微結構能夠快速高效的蝕刻生產。在性能方面,Multiplex ICP能夠為腔室大氣、電離、沈積和蝕刻速率等各種工藝參數提供最佳蝕刻結果。它具有獨特的多功率發電機,具有獨立的腔室控制,以確保對蝕刻和沈積過程的精確控制。它還有一個多級抽取功率控制工具,用於完全優化蝕刻工藝。在安全考量上,STS/CPX Multiplex ICP配備了安全罩。這種防護罩最大限度地防止意外接觸紫外線輻射、化學和機械危險以及高電荷和危險等離子體。此外,該資產還配備了多種控制系統,如等離子體耐受警報、潔凈室汙染警報和射頻發電機過流警報。最後,STS Multiplex ICP能夠以合理的價格提供蝕刻和灰化應用程序的性能、質量和可靠性。它是一個多用途的解決方案,適用於希望執行需要精確和準確的任務的行業和實驗室。CPX Multiplex ICP具有高效使用和保護的能力,是尋求快速、經濟高效地優化其生產過程的蝕刻器和分類器的絕佳選擇。
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