二手 STS / CPX Multiplex ICP #9313228 待售
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ID: 9313228
晶圓大小: 6"
優質的: 2005
Si Etcher, 6"
Pressure controller: VAT PM-7 65046-PA52-AJAI/0016
Gas module:
Chamber:
Ar 100SCCM
O2 100SCCM
SF6 300SCCM
C4F8 200SCCM
RF Generator:
ENI ACG-3B 13.56
ENI ACG-10B-07
ADVANCED ENERGY LF-5 AE 50~460MHz
Chiller: AFFINITY RWA-012L-CE35CBD4 STS
Turbo pump: LEYBOLD MAG 1500CT
Dry pump: EDWARDS iQDP80
Pump: VARIAN SH100
2005 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP蝕刻器是一種蝕刻器或asher,使用感應耦合等離子體(ICP)技術蝕刻或粉刷多種光刻劑等產品。這種蝕刻器是一種高效的工具,可以精確控制諸如功率、頻率、氣流和壓力等工藝參數。STS Multiplex ICP蝕刻器設計有一個柔性腔室,可以根據應用程序和正在處理的材料,用不同的ICP源重新配置。ICP源可以快速切換,從而可以從一個作業快速切換到下一個作業。設備還包括一個氣體輸送系統和一個冷卻組,允許將各種氣體引入腔室。氣體可用於產生特定的蝕刻或灰分圖樣,並可調整以控制蝕刻速率和選擇性。CPX Multiplex ICP蝕刻器具有許多功能,非常適合各種應用。精密的功率控制允許改善蝕刻或灰分均勻性,並使用戶能夠實現高度精確的基板蝕刻或灰分。此外,該單元還配備了自動聚焦功能,允許等離子體自動聚焦,以便產生均勻的蝕刻或灰燼。這在處理斜片時特別有用。機器還有一個集成的冷卻工具,有助於防止過熱。綜上所述,Multiplex ICP蝕刻器是一種高效的蝕刻或灰化工具,適用於一系列應用。它有一個靈活的腔室,可以很容易地重新配置,以適應手頭作業的具體要求,並且自動聚焦特性和可調節的氣體輸送資產對蝕刻速率和選擇性提供了極好的控制。此外,精密的電源和冷卻系統可提高均勻性,防止型號過熱。
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