二手 STS / CPX Multiplex ICP #9316178 待售

STS/CPX Multiplex ICP（感應耦合等離子體）蝕刻/Asher是一種高度工程化的設備，設計用於大量生產微電子元件。系統每次運行最多可處理10個晶圓,每次運行吞吐量時間為300秒（5分鐘）。該裝置采用了廣為人知和備受推崇的ICP技術，對各種金屬和電介質進行簡單、快速和低成本的蝕刻。STS Multiplex ICP是一種經濟高效的工具,它在整個晶片上提供高度統一的蝕刻,而傳統的解決方案則需要額外的處理以保持相同的精度。傳統的水性蝕刻解決方案通常需要大規模的蝕刻設置,這種設置既昂貴又耗時,而CPX Multiplex ICP機器在相同的成本和時間要求下提供了極高的精度。ICP工具利用射頻發生器產生高頻等離子體或帶電氣相，其中含有能夠蝕刻和粉刷不同類型材料的微小和亞微米大小的顆粒。ICP蝕刻器能夠將<100 nm的特性蝕刻/灰化至>10 µm的精度。該資產還能夠執行多個蝕刻和灰燼,允許在同一運行中蝕刻和粉刷多層材料。晶片被預裝，裝入腔室，蝕刻和灰燼過程自動開始。一旦完成，晶片就被卸載。再者，模型可以與上遊或下遊系統整合，以確保更一致的過程參數。與傳統的蝕刻系統相比,這進一步縮短了蝕刻過程的周期時間,傳統的蝕刻系統要求在啟動前對每個過程進行單獨設置。該設備不僅經濟高效,而且使用簡單,使任何經驗級別的用戶都能快速掌握蝕刻/灰燼工藝。系統的通用性意味著它可以用於各種應用，包括細線蝕刻、鈍化、拋光、錐孔、各向同性蝕刻等等。總體而言，Multiplex ICP是一個具有成本效益的單元，能夠提供高度統一和準確的結果。該機利用先進的、眾所周知的ICP技術，提供簡單、快速、可靠的蝕刻和灰化工藝。此外,該工具的多功能性使其適用於多個應用程序,從而使用戶能夠創建準確、細線的功能等等。