二手 STS / CPX Multiplex ICP #9363067 待售
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STS/CPX Multiplex ICP（感應耦合等離子體）是一種為半導體材料加工而設計的蝕刻器/asher，精度和重復性都很高。它在涉及高長寬比蝕刻和陽極材料的廣泛制造中提供單晶片蝕刻/灰分能力。STS Multiplex ICP系統配備了雙射頻波導和多個流程氣體入口，流量高達600 SLM，允許用戶在單次運行時應用優化的蝕刻和灰化條件。雙源射頻等離子體在整個基板表面形成均勻、平衡的離子能量分布和輪廓。CPX Multiplex ICP提供了一個獨立的射頻能量控制的單個射頻源與雙功率發電機操作。它支持一個基板最多兩個腔室的配置，以方便膜具有多蝕刻或灰化步驟具有多種條件和氣體。可以根據工藝要求定制此設備,以提供各種晶圓尺寸、厚度和材料。先進的內部屏蔽系統可確保射頻能量均勻分布在基板上。該單元的用戶友好軟件提供了靈活的過程控制選項,使用戶能夠為每個蝕刻或ashing步驟自定義配方。超壓/真空控制為腔室提供了可調、精確的壓力控制和氣動隔離,確保整個基板表面的過程簡單可靠。為方便薄層、深溝、高長寬比通氣和高密度通氣的蝕刻和粉刷，Multiplex ICP提供了一個專利的平面化控制機（PCS）。這一技術允許對多層材料進行均勻蝕刻，並對深、高縱橫比特征進行過度蝕刻。該工具具有廣泛的蝕刻和灰化技術、卓越的均勻性以及可重現的薄膜效果,確保用戶每次都能獲得最高質量的輸出。STS/CPX Multiplex ICP是大體積、精密蝕刻和灰化應用的完美解決方案。
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