二手 STS / CPX Multiplex #9095065 待售

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ID: 9095065
晶圓大小: 3"-8"
優質的: 2001
RIE System, 3"-8" Load lock PC Controlled RIE process chamber Power distribution cabinet RF Rack Remote gas box Chiller Includes: LEYBOLD HERAEUS Ecodry L rotary pump MESC RIE SC100M Process chamber PC Controlled Intellimetrics End Point Detector (EPD) Frame grabber Electrode temperature control: +5°C to +40°C Non-clamped electrode ENI ACG3B RF Supply and matching unit, watt: 30-300 (13.56 MHz) LEYBOLD Dryvac 50S dry pump Electrode cooling: BETTA-TECH CU500 chiller with DI water Temperature range: +5°C to +40°C Gas boxes: Remote R/H Standard (2) PFC1 module (4) Gas lines (2) Non-corrosives (2) Corrosive process gasses Load lock with EMO Operator panel with keyboard Touchscreen lights Buzzer Panel for EPD TFT Monitor, 18" Multiplex atmospheric cassette system MACS Module for automated wafer loading (2) Cassette automatic modes Manual mode / Cassette to Cassette Manual wafer load 2001 vintage.
STS/CPX Multiplex是一種蝕刻器/asher,用於基板制備和其他類似的過程。它采用了基板轉移設備(STS)和化學鉑金交換(CPX)技術的組合,以產生能滿足最嚴格要求的高分辨率模式。它能夠對基材轉移、抗條、鈍化、化學-機械拋光、基材轉移等過程進行蝕刻和灰化處理。STS Multiplex具有高精度、多向氣體輸送系統、高選擇性離子束和可變功率設置。這種技術的組合提供了高分辨率的蝕刻和灰化結果,對基板的影響最小。可變功率設置允許對過程進行微調以適應客戶的應用和需求,而高選擇性離子束則提供精確的圖樣蝕刻和灰化。CPX Multiplex旨在以最少的浪費和較低的擁有成本實現最高質量的結果。這是通過單位的集中動力、先進的工藝和精確的控制機制來實現的。最重要的是,它還具有確保安全和可靠性的功能,例如收集灰塵、自動校準和熱管理系統,這些功能有助於確保機器在所需參數內運行。Multiplex適用於工業和研究應用。它能夠處理廣泛的基材,並且可以與其他蝕刻器/asher系統串聯使用。此外,它還能夠處理大量有效載荷,並且可以將處理時間減少多達40%,從而提高效率並節省成本。總體而言,STS/CPX Multiplex是一種蝕刻器/asher,可為各種應用程序提供高分辨率的蝕刻和灰化解決方案。它的技術結合提供了極少浪費的高精度結果,其先進的工藝和控制系統確保了安全性和可靠性。它能夠處理大量有效載荷,從而縮短了處理時間,從而提高了效率並節省了成本,使其成為工業和研究應用的理想解決方案。
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