二手 STS Multiplex ICP HR #293622448 待售
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ID: 293622448
優質的: 2001
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE)
Chamber
(2) Electronic racks
(6) PCB:
V.A.C.3.Y
A.M.C.1A
H.B.C.2
H.C.U.3
H.C.L.1
2001 vintage.
STS Multiplex ICP HR是一款專為半導體制造和研究應用而設計的健壯蝕刻器/asher。這臺高度通用的機器能夠進行蝕刻、灰化和淺層采樣。Multiplex ICP HR配備了先進的多區石英晶體微平衡（QCM）設備、旋風淋浴頭和自動晶圓處理系統。高精度的QCM單元可以精確控制蝕刻過程,確保從低電阻率到高k電介質等多種材料的最佳性能。旋風淋浴頭提供了卓越的蝕刻均勻性，對於復雜結構的制造尤為重要。此外，晶圓處理機使多達999個晶圓可以一次處理，並且可以在處理過程中自動檢測、傳輸和索引晶圓。STS Multiplex ICP HR設計為使用多種設備,允許用戶根據其應用程序的具體要求調整其流程。其先進的表面安裝技術為表面選址控制提供了平臺，允許用戶在蝕刻前在目標位置放置標記。此外,機器的各向異性加載功能允許用戶在蝕刻過程中精確設置蝕刻角度。最後,可以將Multiplex ICP HR的多種功能集成到全自動追蹤系統中。這樣可以確保所有流程都能在最高質量保證標準的範圍內高效、準確地執行。總體而言,STS Multiplex ICP HR 蝕刻器/asher為半導體制造和研究應用提供了一個可靠而精確的工具。其先進的QCM工具、旋風淋浴頭和晶片處理資產結合了可定制的選項,為用戶提供了一種通用、高效的蝕刻、灰燼和淺層采樣晶片的方法。Multiplex ICP HR能夠快速處理多達999個晶圓並確保最高的質量保證標準,可大大提高任何蝕刻過程的效率。
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