二手 STS MXP Multiplex ICP HR #9005443 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9005443
Advanced Silicon Etcher (ASE)
Process: Silicon etch bosch
Capable, 2"-8"
EDWARDS E2M40 Loadlock pump
PFEIFFER MAG 2000 High vacuum pump
EDWARDS IQMB250 Roughing pump
EDWARDS IQDP80 Roughing pump
ENI / ACG-3B RF Generator
ADVANCED ENERGY RFG 3001 RF Generator
Loadlock
(4) Gases
HUBER Unistat Chiller, 140 W
Gases: SF6, O2, Ar, C4F8
Balun coil ICP V2
Mechanical clamp
Helium backside cooling
(2) MkIV MPX Carousel, 6"
Power supply: 3 kW, 300/30 W Platen
Purge gas line
E-Rack modules:
HCL1
HCU3
HCU5
VAC3Y
(2) AMC1
HBC2
Operating system: Windows 2000
Power supply: 400 V, 50 Hz, 40 A, 3-Phase
Configured Power supply: 60 Hz, 208 / 460, 3-Phase
CE Marked
2003 vintage.
STS MXP Multiplex ICP HR是一種高級的高分辨率蝕刻器/asher,旨在彌合多個進程之間的差距。它利用高分辨率、多路復用和ICP（感應耦合等離子體）過程來最大化精度、產量和吞吐量。該機器的高分辨率功能由其最先進的成像設備實現。該系統能夠根據應用程序調整蝕刻分辨率,允許分辨率高達18um（微米）。它還具有自動對齊和工藝優化單元，以確保蝕刻的均勻性。多路復用過程允許大量晶片同時處理，減少過程變化，提高產量。ICP工藝創造了比其他蝕刻方法更強大、更一致的蝕刻速率，這對關鍵和半導體應用非常有利。蝕刻器/asher還具有出色的硬件功能,使其功能更加強大。它的大型自動化裝載機使得一口氣處理多個晶片更加容易。它還帶有一個特殊的、封閉的ICP腔室，它使環境無灰塵，提高了工藝的功效。MXP Multiplex ICP HR也能夠集成到清潔室環境中。其獨特的設置允許更高水平的制造過程控制，使其成為精密過程的理想選擇，如半導體和醫療設備生產領域的精密過程。STS MXP Multiplex ICP HR是一種出色的蝕刻器/灰化器,可用於多種不同的制造工藝。它具有高分辨率、多路復用和ICP功能,非常適合精確度是關鍵的應用程序。它也非常適合潔凈室環境，是任何需要高度工藝控制和精確度的生產環境的理想選擇。
還沒有評論