二手 STS Pegasus DRIE #293596360 待售

STS Pegasus Deep Reactive Ion Etcher （DRIE）是一種強健、高性能的生產蝕刻器/Asher,能夠提供深反應性離子蝕刻（DRIE）工藝,以精確創建具有高垂直長寬比的特征。STS飛馬DRIE蝕刻器的等離子體源產生的高能離子精確地指向工件表面。這些高能離子用於蝕刻基板的目標區域，而石墨壁屏蔽則用於保護其他區域不受蝕刻過程的影響。飛馬DRIE前沿技術的核心是高壓電源和強大的2.45GHz微波等離子體源。其先進的來源，專為DRIE工藝而設計，產生多種離子，氣體利用效率高。該設備采用所有數字控制器以及復雜的過程控制算法，使用戶能夠實時監測和控制其配方。STS Pegasus DRIE蝕刻器的電源經過專門設計,能夠提供高效且可重復的工藝配方,而且精確度非常高。室內溫度、壓力、功率等變量在聚合物處理協議內進行精確管理。此外，飛馬DRIE蝕刻器配備了DCMS CoreShield，這是一套特定的安全特性，也有助於蝕刻工藝的精確度。這包括一個雙壓力差分系統，用於測量工藝室與排氣管之間的壓力，以及自動關閉裝置，當檢測到過大的壓差時停止該過程。STS飛馬DRIE蝕刻器非常適合各種基材，包括矽、石英、玻璃、陶瓷等材料。這個多基板平臺為各種產品設計提供了最大的兼容性。蝕刻器支持廣泛的特征大小,能夠精細控制蝕刻輪廓以及高長寬比。整個機器足夠靈活，可以處理大面積基板、小面積基板包括補丁、晶圓，甚至包括金屬和玻璃在內的硬質非多孔材料等多種應用。總體而言，飛馬DRIE是高長寬比、深反應性離子蝕刻工藝中最可靠、最先進的蝕刻工具。憑借其先進的電源、電源和安全功能,用戶可以通過其工藝配方以及可靠、可重復的結果獲得最高的精度和準確性。