二手 STS / SPTS Multiplex ICP #293666162 待售

ICP（電感耦合等離子體）蝕刻器/灰化器是用於制造微電子器件的專用設備。它使用單晶圓、多重晶圓和多棧基板配置執行濺射蝕刻和等離子體蝕刻過程的組合。ICP蝕刻器經常結合真空系統、蝕刻室、射頻發生器和工藝室。在腔室中，單層或多層基板構型被放置在架子上，在架子上方和/或下方引入有方向的蝕刻氣體流。可以使用多種不同的蝕刻氣體混合物，對底物達到不同的效果，從物理蝕刻到化學蝕刻和沈積。蝕刻氣體在產生等離子體的真空室中被射頻發生器電離。根據底物的不同，產生的等離子體可能會或可能不會在蝕刻過程中發揮作用。ICP技術經常與STS（基板轉移基板）和/或SPTS（濺射等離子體轉移基板）工藝相結合，用於同時蝕刻和/或粉刷多種基板。這種多路復用消除了在每個基板上重復蝕刻過程的需要,從而提高了吞吐量。STS/SPTS和STS技術都涉及一種特殊的杯狀轉運器，該轉運器裝有單個基板並轉移到蝕刻室中。SPTS技術使用單個基板支架，其中正負電極位於杯子的相對兩側，都暴露於等離子體。然後將該支架移至蝕刻室,並在基板上執行蝕刻過程。STS/SPTS工藝相似，只是杯狀轉運器在移動到蝕刻室時同時包含多個基板。這樣，可以對腔室中的同一組基板應用多個過程。這對於在多個基板上實現均勻蝕刻特別有用，因為不需要為每個單獨的基板重新設置或重新啟動蝕刻過程。綜上所述，用於STS多重基板配置的ICP蝕刻器結合了真空系統、蝕刻室、射頻發生器和工藝室，在多個基板上同時進行濺射蝕刻和等離子體蝕刻過程的組合。這提供了一種更快、更高效的蝕刻多種基材的方法，同時在蝕刻過程中保持均勻性。