二手 TECHNICS Micro RIE 800 #9124004 待售
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ID: 9124004
Table top system
For parallel plate plasma processing
300W RF Power supply with matchbox
(3) MFC Process gas controls
(2) 100 sccm
25 sccm
RIE Bottom electrode SST chamber, 9”
Electrodes water chiller:
Electrode cooling inert fluid prepared pump
Oil filtration system.
TECHNICS Micro RIE 800是一種蝕刻和灰化機,設計用於高精度工藝。該機設計用於精確、可重復地控制蝕刻和灰化過程,提供對蝕刻和灰化參數的終極控制。它使用靜電卡盤在蝕刻和灰化操作中將基板牢固地固定在適當的位置。此蝕刻器/asher由於其獨特的設計特性而具有出色的性能標準。它有四個獨立的靜電卡盤站,具有可調的腔室壓力設置,使用戶能夠優化每個單獨作業的設置,從而提高吞吐量,節省成本並減少磨損。它的高分辨率熱成像系統,連同它的軟件,使高精度蝕刻和灰度具有均勻性和可重復性。腔室蓋還具有內置冷卻管理功能,可提高工藝的均勻性、可重復性和準確性。該模型專為半導體、微電子和生物芯片行業的特定應用而設計。它提供了多種單獨和多個基板蝕刻和灰化功能,以及根據應用調整工藝參數的能力。它還具有快速的單個晶片模式識別功能,為用戶提供了優化蝕刻工藝參數的可能性。在技術方面,Micro RIE 800的分辨率為25 μ m,與矽/二氧化矽、二氧化矽、氧化鋁、鎢和鈦等一系列材料兼容。采用低電感三相電源,它需要低於10 mT的低壓要求,確保精確控制和過程可重復性。它還具有低感應氣體供應,保護電極免受汙染,並確保高質量的蝕刻/灰化結果。總體而言,TECHNICS Micro RIE 800是一款可靠、高精度的蝕刻器/asher,具有多種先進的功能,使其適合半導體、微電子和生物芯片行業的各種應用。它的分辨率、可重復性和精確度為用戶提供了質量保證和改進的過程控制,從而降低了運營成本,提高了吞吐量並節省了成本。
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