二手 TEGAL 701 #104111 待售

ID: 104111
晶圓大小: 4"
優質的: 1995
Plasma in-line etcher, 4" Process capability: 4" wafer with 15 wafer/ hour Utilities: N2: 10—20 psig SF6: 10—20 psig O2 :10—20 psig He : 10—20 psig Chilled water: 20—40 psig For RF supply Electrical power: 110 VA, single phase, 50/60 Hz For Vacuum pump 208 VAC, 15 Amp 1995 vintage.
TEGAL 701是一種高分辨率、計算機控制的幹蝕刻器,設計用於小晶片和基板上的微結構。它是一種通用的蝕刻工具,可以處理廣泛的蝕刻過程,使其成為研究和生產應用的理想選擇。701利用高級軟件系統監控蝕刻過程,允許用戶自定義蝕刻參數以獲得最佳效果。該蝕刻器具有控制蝕刻速率、基板溫度、蝕刻角和氣流的多種選擇。此外,先進的自動壓力控制(APC)系統可確保腔室內的壓力保持不變,而與所使用的化學成分無關。TEGAL 701還提供了自動快速轉換(QCO)功能,這有助於在不同的蝕刻過程(如從濕蝕刻到幹蝕刻)之間高效、安全地傳輸晶片。這確保了一貫的高質量蝕刻性能,而無需花費額外的時間來提高蝕刻速率穩定性。701還為矽、金屬、陶瓷、半導體材料等多種材料的等離子體蝕刻提供了高度的靈活性。該蝕刻器包括一個特別設計的熱等離子體源,能夠達到高達1000°C的溫度和最小的等離子體損傷。此外,該蝕刻器還提供低濃度、惰性氣體混合物和高壓純氣體蝕刻的低壓真空蝕刻。TEGAL 701還能進行深度蝕刻,垂直分辨率為250 nm,水平分辨率為75 nm。此外,它內置的實時晶片跟蹤系統允許用戶準確精確地定位晶片進行蝕刻。總體而言,701是一款功能強大、靈活且可靠的幹蝕刻器,可用於多種蝕刻工藝。其先進的控制軟件、自動化的快速轉換和高端蝕刻功能使其成為滿足研究和生產需求的理想選擇。
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