二手 TEGAL 901e #33637 待售

TEGAL 901e
ID: 33637
晶圓大小: 3" - 6"
Poly/Nitride Plasma etcher, cassette to cassette, 3"-6".
TEGAL 901e是一種先進的蝕刻和灰化設備,可為幹蝕刻應用提供可靠的蝕刻性能。適合於廣泛的材料,包括砷化氙(GaAs)、SiGaAs、SiGaSb和磷化​​二銨(InP)。該系統包括一個真空等離子體蝕刻室、一個高電流等離子體源和一個全自動的機械傳輸臂-全部集成到一個封裝中。TEGAL 901 E的設計可提供超精密的蝕刻深度和均勻性,具有出色的掩模物理完整性,並采用氣體平衡蝕刻工藝,確保蝕刻表面的垂直度優越。此外,該裝置能夠制造微米精度分界線,這對於制造光電器件是必不可少的。901e的真空室具有感應耦合等離子體源,大大縮短了加工時間,同時提供了較高的加工率和可靠的襯底效果。901 E配備了主動壓力和溫度控制機,可以讓用戶同時控制蝕刻等離子體和環境溫度。它還具有等離子體監測儀,可用於精確測量蝕刻速率和溫度。TEGAL 901e的機械傳輸臂提供全自動基板裝卸,並具有集成的防撞工具和安全處理程序。該臂的基座符合行業標準的EPROM/EEPROM插座,該插座允許輕松、安全地裝卸基板。此外,TEGAL 901 E支持多種工藝條件,包括蝕刻氣體和壓力設置,使其成為生產和研發應用的理想解決方案。而且與多種流行的蝕刻工藝兼容,如反應性離子蝕刻(RIE)、深反應性離子蝕刻(DRIE)、等離子體增強蝕刻(PEE)、等離子體蝕刻(PE)。總而言之,901e是一種高性能的蝕刻和灰化資產,能夠提供卓越的蝕刻和均勻性,以及出色的口罩物理完整性。它適用於許多幹蝕刻應用,是生產和研發活動的寶貴工具。
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