二手 TEGAL 901e #70080 待售

TEGAL 901e是專門為半導體應用開發的先進蝕刻器。這是一個「獨立的」設備，由一個旋轉的外部和內室設計，提供統一的處理結果。特點包括高通量，晶片處理能力高達三個單元，均勻蝕刻效果和優越的清潔度。該系統內置了易於使用的功能和動態交互式顯示器的可編程控制器。直觀的圖形用戶界面（GUI）可用於自定義參數和監視每個進程的進度。該軟件還允許通過直接串行通信鏈路或TEGAL Corporation專門開發的流行遠程控制協議（RCP）進行遠程控制。TEGAL 901 E使用直接、間接或組合等離子體源對半導體晶片進行蝕刻或表面處理。該裝置使用氣體控制裝置（GCU）監測和控制蝕刻過程中使用的氣體。GCU的程序具有氣體濃度特征,能夠支持多達16個工藝階段。晶片水平放置在機器中，然後以可編程速度以順時針或逆時針方向自動運輸。該工具的每個晶片部分都有一個孤立的等離子體源，可以對晶片進行更多的離子轟擊，從而產生更好的蝕刻效果。901e先進的蝕刻室設計具有優異的工藝一致性、最小的顆粒汙染和最大的吞吐量。蝕刻室以一致的溫度進行壓力控制，形成均勻的蝕刻環境。901 E資產提供了多種可重復的過程和配方,可供將來使用。TEGAL 901e的控制是以三軸運動控制模型為基礎，采用積分PID環路控制，提供了最佳蝕刻環境。該設備還具有一個振蕩蝕刻選項，可用於提高具有圓形幾何形狀的零件的均勻性。TEGAL 901 E是蝕刻和表面處理半導體晶片的理想系統。其用戶友好的GUI、先進的蝕刻技術和靈活性是生產高度可靠的半導體器件的理想之選。