二手 TEGAL 901e #70083 待售

ID: 70083
晶圓大小: 4" - 6"
Plasma etcher, 4"-6" capability Photoresisty asher Cassette to cassette 13.56 MHz ENI RF Generator, 1000W Microprocessor control Non-friction spatula wafer transport.
TEGAL 901e是為現代微加工工藝設計的頂級等離子體蝕刻和asher設備。這種半自動系統具有新穎的設計,非常適合廣泛的應用領域,使其成為研究人員、工程師和工業過程開發人員的理想選擇。TEGAL 901 E比人工蝕刻和灰化技術具有許多優點,如快速的等離子體蝕刻速率、出色的工藝控制以及精確的比例線性蝕刻深度控制。901e的10 「x 8」大工作區,可實現高吞吐量和大基材尺寸的快速加工。其強大的射頻發電機單元使用戶能夠精確控制傳遞的功率。廣泛的蝕刻配方可以通過改變工藝參數來調整,如氣流、壓力、腔室溫度等變量,允許微調參數設置和可重復、高精度的結果。獨特的腔室設計量身定制,以最大限度地提高工藝效率,最大限度地減少汙染,導致極低的顆粒數量和最佳的均勻性。901 E還提供高級蝕刻和灰化功能,如定向和各向異性蝕刻/灰化、高長寬比結構,以及改進了對不同材料的選擇性。該機器設計用於精確控制蝕刻深度和寬度,使研究人員能夠進行蝕刻實驗、工藝表征和開發。TEGAL 901 e具有觸摸屏操作功能,允許直觀的用戶控制,允許簡單的配方創建、蝕刻率監控和過程分析。對於更復雜的應用,TEGAL 901 E配備了一套全面的板載數據系統,為用戶提供詳細的流程反饋。該工具的符合人體工程學的設計可方便清潔、日常維護和延長生產時間。總之,901e對於那些正在尋找可靠、高能力的等離子體蝕刻和粉刷資產的人來說是一個極好的選擇。它以最高的精確度和對細節的關註來構造,以確保一致、可靠的性能。901 E具有出色的吞吐量、準確性和控制能力,是微加工工藝的理想選擇。
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