二手 TEGAL 901e #75520 待售
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單擊可縮放
ID: 75520
晶圓大小: 4"
Plasma Etcher, rebuilt Cassette to Cassette, Polysilicon / Silicon Nitride
Currently configured for 4" wafers
ENI 1000 Watt 13.56 MHz RF Generator
20 Process recipe capability
Non-friction spatula pick and place wafer transport
Leybold D65 oxygen service pump
Tegal Closed loop temperature controller
Chart recorder for endpoint trace monitoring
DEC Monitor and keyboard
Manuals included
Facility requirements
200-240 VAC selectable (50/60hz) single phase
RF Generator 200-240 VAC selectable (plugs into 901e)
Monitor 115VAC (plugs into 901e)
Chart Recorder 115VAC (plugs into 901e)
Vacuum pump 200-230 VAC 3-phase
Temperature controller 115 VAC
CDA or N2 regulated to 80 +/- 5 psi
N2 regulated 15 to 30 psi
Process gas’s regulated to 15+/- 5psig (Regulators currently installed on table)
O2 clean regulated to 10+/- 5psi
901e Vacuum pump connection KF-40 Flange
901e Cabinet exhaust connection 4” 100 cfm.
TEGAL 901e是一款已成為半導體制造業重要工具的基準等離子體Asher/Etcher。由TEGAL Corporation開發的TEGAL 901 E是一款高效可靠的設備，可用於多種蝕刻和灰化工藝。901e由基座單元、電源、控制器、可調樣品支架和腔室組成。901 E的基座單元由硬質鋁合金制成，包括一個頂板和兩個側門。系統的電源使用的電壓高達1,000V,最大電流為1,000 mA。電源可以配置為提供不同的電源配置文件,從而使TEGAL 901 e能夠靈活地執行一系列的灰化和蝕刻過程。TEGAL 901 E的控制器允許方便的用戶界面和對設備的控制，具有直觀的圖形用戶界面和診斷儀器。樣品支架是可調的，允許引進各種樣品材料。腔室允許形成惰性氣氛，從而最大限度地控制工藝環境。901e可用於蝕刻或作為兩種材料表面,包括薄膜、金屬、聚合物、半導體和電介質。該機器提供快速的加工時間,能夠在幾秒鐘至幾分鐘內對樣品進行蝕刻或粉刷,並且在完成後不會損壞材料。總之，901 E是一種高效可靠的多功能灰化器和蝕刻器。TEGAL 901e具有精確控制工藝環境和快速工期的能力，是半導體制造業的重要工具。
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