二手 TEGAL 901e #9016257 待售

TEGAL 901e是一種先進的高通量等離子體蝕刻器/ascher,專為制造光掩模、薄膜頭和MEMS設備而設計。它采用了獲得專利的脈沖激光誘導蝕刻技術，提供了傳統蝕刻工具五倍的蝕刻速率。它可以實現高達25 μ m/min的蝕刻速率,並具有精確的特征邊緣定義和最小的蝕刻損壞。脈沖模式特性允許用戶控制蝕刻過程的深度輪廓，減少蝕刻材料的重新沈積。TEGAL 901 E由磁場限制電感耦合等離子體（ICP）源提供動力,該源針對各向同性蝕刻進行了優化,具有高均勻性、選擇性和均勻性。ICP源在控制蝕刻選擇性方面是精確的,可調節,調諧範圍可高達500攝氏度,並可提供高達10 W的功率,具有很高的重復性和穩定性。901e為Ar、O2、N2等工藝氣體提供獨立質量流量控制器（MFC）和氣體壓力控制傳感器（GPCS）的蝕刻和冷卻氣體輸送的精確控制。901 E提供精確的等離子體蝕刻,腔室尺寸為450 x 400 x 450 mm3,樣品尺寸可達3 x 3英寸（76 x 76毫米）。它具有全自動FOUP加載模塊和光學密度檢測系統.此外，TEGAL 901e具有低軸承等離子體和無懈可擊的設計，提供卓越的汙染控制和卓越的預期壽命。TEGAL 901 E是為高端半導體、光掩模和MEMS應用而設計的創新蝕刻工具。它提供了蝕刻的最高精度，蝕刻傳遞和參數的精確控制，以及用於汙染控制的低軸承等離子體。它易於自動化、堅固且經濟實惠,是制造和高端蝕刻工藝的完美工具。