二手 TEGAL 901e #9381612 待售
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單擊可縮放
ID: 9381612
晶圓大小: 3"-6"
優質的: 2001
Plasma etcher, 3"-6", parts machine
P/N: CS900-11590
(4) Gas input lines
P/N: 99-172-003/F IMN-3
Chuck, P/N: CW1109-41101
P/N: 99-142-003/A DIS-3
RF Delivery, P/N: CR1124-01002
P/N: 99-173-008/C RFG-8
P/N: 99-128-006
Gas delivery blank, P/N: CG1145-02001
RCTN Chamber, P/N: CC1106-01302
P/N: 39-342-001
Press vacuum with ATM sensor, P/N: CG1146-01302
Spatula Dr, 4", P/N: CW1078-40401
P/N: 99-207-004/K MBE-4
P/N: 80-095-278
P/N: 26-041-039C
Missing parts:
Control computer
Capacitance manometer
Mass flow controllers
RF Match unit
Vacuum pump
Manuals
Cords / Cables
Power supply: 200/208 V, Single Phase, 30 A, 50/60 Hz
2001 vintage.
TEGAL 901e是一種非常強大的蝕刻/灰化設備,專為晶圓加工操作的卓越性能而設計。此蝕刻器/asher系統是一個全自動的高通量單元,具有圖形界面和嵌入式計算機,可在一個模塊化軟件包中提供過程控制和分析功能。該單元還提供了多種工藝蝕刻和灰化的基板如矽、FR4、的，和GaAs。TEGAL 901 E配備了120毫米的鎖載室和負載端口，每批最多可容納6個晶片，便於快速高效的晶片處理。此外，該室提供了廣泛的選項，包括升華加熱階段，樣品觀察機，和質量流控制器。樣品查看工具與全景成像相結合，可確保樣品在蝕刻和灰化過程中的精確定位。901e的等離子體源基於多頻ECR（電子回旋共振）技術。它能夠產生從低到高的射頻功率輸出，允許各種蝕刻和灰化條件。等離子體源還配備了快速循環機制，以縮短工藝周期時間。901 E還設計為安全、節能，非常適合用於研究、試點線路和工業應用。利用全自動晶片處理資產和圖形用戶界面,TEGAL 901 e允許用戶自動打印晶片映射和程序序列,從而簡化了蝕刻和灰化過程。它使用戶能夠精確控制蝕刻參數，包括頻率和功率、溫度、壓力和氣體成分。此外,使用機器的軟件,用戶可以輕松監控流程進度並分析流程後的結果,從而確保結果可靠、可重復且一致。TEGAL 901 E為我們的客戶提供了一種可靠、功能強大的蝕刻/灰化工具,可提供卓越的晶圓處理性能和運行期間的長期穩定性。緊湊的設計和直觀的用戶界面使晶圓處理更加容易和高效。此外,模型識別和監視過程參數的能力允許用戶精確管理過程條件並維護產品質量。
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