二手 TEGAL 903 #9210306 待售

TEGAL 903是一種簡單且低成本的蝕刻/灰化設備，設計用於生產高質量的金屬和化合物。該系統采用低壓調制化學氣相沈積（CVD）工藝，生產高純度金屬、合金和金屬間化合物。它具有高達1000 °C的工藝室溫度範圍、大量的氣體選擇以及高達25 mbar的壓力範圍。903所實施的蝕刻/灰化工藝是基於兩個重要步驟的組合：在目標基板上形成保護膜的CVD，以及去除基板上不需要的殘留物的灰化。該裝置還提供了可供CVD使用的最高沈積速率，以及與許多其他系統相比較高的化學純度。此外，該機器被設計為在實驗室或生產區占用很少的空間。TEGAL 903的低壓CVD工具提供了最高的沈積速率,其沈積速率最高可達6.5 nm/s,最高可達30 nm/min,具體取決於材料和工藝參數。此外，該資產具有高達99.95%的穩固沈積均勻性，沈積精度高達0.02微米。這與良好的速率再現性相結合，使其適合於實現優異的基板表面質量和精確的薄膜沈積。903具有高精度、全驅動的基板支架，能夠以高達每分鐘五點五毫米的高速移動，以及一個保護室，以減少振動產生，最大限度地減少傳熱到基板，並保護模型免受臭氧和塵埃顆粒的影響。此外，一條額外的真空管線連接到安全工作室的外部，以疏散多余的氣體，並從蝕刻/灰化過程中清除任何不需要的顆粒。TEGAL 903還有一個氣體混合裝置，它允許對蝕刻/灰化過程中的氣體成分進行精確的化學計量和非化學計量比率。該裝置能夠在一個循環中提供適量的多種氣體，可以根據所需的條件和參數進行精確控制。驅動機構也采用風冷，確保運行穩定可靠。總之，903是一種低成本、高效、可靠的蝕刻/灰化設備，沈積速率、均勻性、準確性都較高。該系統不僅能夠提供精確的氣體混合、強大的工藝控制以及免受外部汙染物的影響，而且是希望生產高質量金屬和化合物的科學家和工程師的理想選擇。