二手 TEGAL 981 #9159791 待售
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ID: 9159791
晶圓大小: 8"
Etcher, 8"
Process: Nitride
Single chamber
Silicon nitride
Etcher
Chiller
Pump
Hazardous gases utilized: Oxygen (O2)
Chem class: Oxidant
Non-hazardous gases utilized / Chem class / Waste stream:
CDA / Non-flammable / Recyclable
Nitrogen (N2) / Inert / Recyclable
Helium (He) / Inert / Recyclable
Sulfur hexafluoride (SF6) / Inert / Recyclable
Carbon Tetrafluoride (CF4) / Inert / Recyclable
Non-hazardous liquids utilized:
Water process
Chem class: Recyclable
Waste stream: Recyclable
Mechanical systems utilized:
Acid exhaust (PES)
Chem class: Corrosive
Waste stream: Corrosive waste.
TEGAL 981是納米制造行業的先進蝕刻器/asher。它是專門為微電子材料的精密蝕刻和灰化而設計的，采用了先進的等離子體生成技術。981結合了深反應性離子蝕刻（DRIE）和感應耦合等離子體（ICP）功能,提供了45nm以下分辨率特征的快速可靠蝕刻。TEGAL 981配備了廣泛的加工室，允許廣泛的蝕刻和灰化技術以及多種材料，包括矽、玻璃和陶瓷。它配備了13厘米長的泵送系統、RIE和ICP腔室，以及真空渦輪分子泵。這允許對蝕刻工藝進行精確控制，具有達到納米級精度的能力。該系統還配備了額外的傳感器和監視器，能夠進行實時控制調整和優化，而內置的安全機制則確保了超低水平的汙染。981最令人印象深刻的特點之一就是它的蝕刻均勻性。結合ICP和DRIE功能，可以蝕刻厚度均勻度高達1%的層。這使得它非常適合從金屬層到絕緣體和金屬氧化物的蝕刻材料。它還能夠提供非常大的蝕刻深度，高達500 um，使其適合高長寬比處理應用。TEGAL 981由於能夠同時處理多個工件，與其他蝕刻器相比也提供了經濟高效的操作。這樣可以大大節省材料成本和人工成本。此外,系統還配備了一系列高級功能,可在蝕刻復雜形狀和特征時提供更大的靈活性,包括與各種CAD程序的兼容性。這使得它成為任何納米制造需求的理想選擇。
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