二手 TEGAL Chamber for 415 Plasma asher #293661204 待售

TEGAL Chamber for 415 Plasma asher是一種先進的蝕刻/灰化技術，用於半導體生產和研究。415等離子體灰燼能夠在氧氣或過程氣體環境中進行快速蝕刻和灰化，並具有精確的溫度控制。腔室占地面積很小，設計方便。它具有不銹鋼內部和特殊的鎢互鎖腔室設計，以改善工藝氣體分配的均勻性。該室配備了最先進的安全功能，如：安全聯鎖、雙室壓力監控器和安全關閉電磁閥，以確保安全運行。該腔室配備了小容量、峰值、中、超快射頻發電機，可實現廣泛的運行條件。它提供了高精度、可重復的蝕刻和灰化結果,低流量高達400 mmHg。該室先進的運動控制設備通過精確控制樣品的位置來確保最大程度的過程均勻性。自適應控制的可滲透過濾系統有助於保持潔凈室表面，防止帶電顆粒汙染。TEGAL Plasma Asher的腔室容量很大，可以處理高達244mm（正方形或矩形）的加工板尺寸。它還有一個數字氣體壓力控制單元，有助於限制空氣中的顆粒汙染，並允許非常精確的蝕刻過程。室內覆蓋著最先進的加熱機，對溫度變化提供快速反應。415 Plasma Asher旨在通過滿足客戶特定的流程參數來提供一致的性能和可重復性。與現有的蝕刻/灰化技術相比,它易於操作和維護,旨在提高生產率並降低成本。它確保了高質量的晶片，並最大限度地提高了產量。其先進的安全特性和運動控制工具使其成為蝕刻和灰化工藝的可靠資產。