二手 TEL / TOKYO ELECTRON Chamber for Trias #293650087 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Chamber for Trias是一款蝕刻器/asher，具有三步濕蝕刻工藝，具有卓越的蝕刻精度。這種專用設備能夠快速蝕刻薄膜上的小特征，對底物的浪費和損壞最小。它非常適合需要關鍵性能和最小基板損壞的各種半導體、MEM和納米設備應用。TEL trias etcher/Asher專為一次處理多層薄膜而設計，同時進行等離子體蝕刻、濕蝕刻和濕清潔--TOKYO ELECTRON稱之為「預測模式」。此過程可確保所有蝕刻特征的來源均勻且寬度和深度一致。此外,獲得專利的三步過程允許過度蝕刻不那麼關鍵的功能,從而節省成本並減少浪費。腔室本身由兩個射頻發生器組成，這些射頻發生器被裝入一個帶有蝕刻窗的不分隔腔室，可以調整以有選擇地蝕刻不同的層。采用雙面晶片處理系統，在工藝室內移動晶片，防止汙染。晶片首先使用射頻蝕刻技術進行等離子體蝕刻處理，然後轉移到濕蝕刻步驟，最後轉移到濕清潔階段。TEL/TOKYO ELECTRON trias tetcher/asher的優點超出了其快速的製程速率。由於等離子體蝕刻過程平緩，腔室最大程度地減少了排泄性和對基板的損害。此外，可以縮短與蝕刻劑的接觸時間，並通過在所有基材尺寸上實現工藝可重復性最大限度地提高吞吐量。TEL trias etcher/asher專為先進的半導體、MEM和納米器件加工而設計，是一種可靠、直接的加工設備，可以滿足所有先進的蝕刻要求。它能夠在一個步驟中移動、過度蝕刻和清潔,再加上出色的可重復性和準確性,使其成為任何幹蝕刻過程中的寶貴資產。