二手 TEL / TOKYO ELECTRON Chemical Vapor Deposition (CVD) systems #293665947 待售

TEL化學氣相沈積（CVD）系統是一種蝕刻/灰化系統,用於將材料薄膜以受控方式沈積在表面上。該系統將氣相沈積的物理和化學原理與高溫室工藝相結合，可用於多種用途。它能夠將薄膜塗層精確地沈積到玻璃、金屬和半導體級材料等基材上。在其核心，CVD是一種蒸氣相過程，涉及將反應物氣體（或氣體）引入一個室內，在該室內，底物和加熱表面保持高溫。反應物氣體與加熱表面的反應在底物上產生所需材料的薄膜。這種膜通常很薄，往往具有致密和均勻的特性。CVD的常見應用包括沈積半導體芯片的介電和導電膜、太陽能電池的薄膜光學層、顯示裝置以及醫療和汽車部件的保護塗層。此外，該技術還用於沈積金屬和陶瓷，用於腐蝕、磨損和熱屏障保護。在操作過程中，系統由高真空室、供氣管線、運動學真空泵和反應容器組成。在開始之前，真空室需要疏散到1 x 10-4 mbar的壓力。達到真空後，將氣體反應物註入反應容器，其中存在加熱表面。氣體會與加熱表面發生快速放熱反應，產生蒸氣，在底物材料上形成薄膜。同時，反應物應以預定溫度和精確量進入反應容器。根據反應物氣體的狀況，沈積過程的溫度和持續時間應仔細控制。這樣可以確保所需的薄膜高效、均勻地沈積在基材上。過程完成後，反應物氣體關閉，反應容器降壓。生成的薄膜根據其用途從基板上除去、收集並進一步加工。綜上所述，TOKYO ELECTRON Chemical Vapor Deposition Systems提供了一種將材料薄膜沈積到基板上的精確可靠的方法。該工藝可根據所需材料和薄膜的確切規格進行調整。通過適當控制工藝的溫度和持續時間，可以生產出均勻且高度致密的薄膜。這項技術在電子、航空航天、汽車和醫療等行業得到廣泛應用，因為它在沈積薄膜方面的效率和有效性。