二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293654963 待售
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ID: 293654963
優質的: 2005
Diffusion furnace
Control system
Heater temperature: 600°C-900°C
Load port
FIMS
Wafer transfer
Boat elevator / Seal cap rotation
Auto shutter
Heater model
N2 Load lock
Boat operation
Process: LPCVD
Si SEMI STD-Notch, 12"
Furnace temperature controller: M780
HTR
Power box
Carrier transfer
Mechanical driver
Exhaust box
Front and rear upper cover
Final valve box
Gas flow chart
O2 Analyzer
Hard Disk Drive (HDD)
Does not include HCT
User interface:
MMI and gas flowchart: Gas box and front operation panel installed
Pressure display Unit: Mpa / Torr
Carrier type: FOUP / 25slots SEMI STD
Fork meterial: Al203 and PEEK
W/T Type: 1+4 Edge grip
16-Carrier stage capacity
Wafer notch aligner
RCU
UPS
Power distribution system:
3-Phase connection type: Star connection
Single-Phase connection: Grounded
Single-Phase voltage
Gas distribution system:
FUJIKIN Integrated Gas System (IGS)
IGS Final filter, regulator: MFC Z500 Type
MKS Capacitance manometer vacuum gage - press monitor (133 Kpa)
Power supply: 400 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H是為需要快速、精確和精細蝕刻工藝的應用而設計的蝕刻器/asher。設備采用等離子體源、蝕刻氣體、受控功率和高頻（RF）電力的組合，打造出完美的蝕刻輪廓。蝕刻過程從確保幹凈、精確的平面基板開始。這樣做是為了確保蝕刻過程在基材中產生均勻的蝕刻結果。接下來，將蝕刻氣體註入系統腔，由獨立的射頻天線截面與基板分離。該單元然後將射頻能量施加到腔室，產生一個由帶電粒子和與底物相互作用的反應性物質組成的等離子體。然後由蝕刻面積、蝕刻氣體流量和功率強度等參數組合控制蝕刻速率。TEL Formula-1S-H配有精密蝕刻室，適合蝕刻高長寬比（HAR）結構，同時也保證了垂直侵蝕的低輪廓。這使得即使是最復雜的三維結構也有可能定義出高精度。此外，該機具有多種人性化特點，如自動晶片識別、車載化學管理工具、濃縮化學維護和輔助程序指南。TOKYO ELECTRON Formula-1S-H具有很高的通量率，讓它在較短的製程時間內產生高品質的蝕刻結果。該資產還被設計為可靠，因為它被設計為能夠承受高功率射頻場和極端溫度。所有這些功能使其成為需要快速、精確蝕刻的蝕刻應用程序的理想選擇。
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