二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #9382422 待售

TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K是為了半導體器件製造而優化的先進蝕刻/asher設備。利用原子層沈積（ALD）技術和高k介電材料，TEL公式ALD High-K提供了對蝕刻深度的精確控制和優異的選擇性。這種先進的蝕刻器/asher具有可靠、可重復的真空工藝，能夠在控制材料厚度的同時去除材料。其先進的冷卻系統可確保整個晶片的快速、均勻的冷卻速率,從而減少不需要的橫向定義蝕刻。TOKYO ELECTRON FORMULA ALD High-K具有強大的高效電機，能夠快速、精確的蝕刻技術來制造最新的半導體器件。其精密的沈積頭保證了各種尺寸的基板蝕刻時的高選擇性。Formula ALD High-K與各類基材兼容，包括矽、氧化矽、矽酸鹽、鉬酸鹽、石英等，使其適合各種半導體器件的應用。該單元還支持使用高k介電材料，與傳統溶液相比，它提供了優越的介電特性。TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K提供卓越的蝕刻均勻性，使其成為先進半導體器件設計的理想蝕刻器/asher。其先進的高k介電材料可確保出色的蝕刻效果,而不會犧牲兼容性或可靠性。其高效率的電動機允許高密度、高速的蝕刻，而其精確度保證了嚴格的結果與低總擁有成本。總體而言，TEL Formula ALD High-K是為制造最新半導體器件而優化的先進蝕刻器/asher機器。其精密可靠的真空工藝，加上與先進的高k材料的兼容性，使得該工具成為任何蝕刻或灰化工藝的理想解決方案。因此，TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K是現代半導體器件制造的有力工具。