二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9253876 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K是一種先進的原子層沈積（ALD）設備。它是一種專門設計用於制造高性能半導體器件如納米級晶體管和高k材料的蝕刻器/asher。TEL Formula ALD High-K提供高流程重復性、均勻性和可擴展性,同時提供成本最低的結構和產量最高的設備。其精密的工藝可靠性、均勻性和高產量的可制造性，使得高批量生產和可擴展性成為可能。TOKYO ELECTRON FORMULA ALD High-K的特點是升級了質量流量控制器（MFCs）,提高了精度,為用戶提供了一個高度重復和可靠的過程。此外，監測溫度和避免墻體沈積物在反應堆提供了有效和容易的配方控制。該系統還支持大型沈積區，使用戶能夠擴大生產能力。Formula ALD High-K提供了最先進的技術,旨在滿足廣泛的應用需求,如Advanced Power Devices （APD）、超高k材料和ULSI技術中的其他應用。TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K中一些最先進的工藝是其固相氧化鋁沈積和原子氧工藝，用於生成高k材料。該單元還根據應用程序支持可自我配置的進程參數。TEL Formula ALD High-K配備了創新的TELCMIX排氣模塊，具有先進的多級過濾功能。這種高效的排氣機有助於保持加工室內的最佳條件，並有助於減少顆粒汙染。集成氣體監測工具提供實時氣體流量和壓力控制，確保過程的重復性。該資產還得到TEL尖端TraxRecipe軟件的支持，該軟件借助易於使用的圖形用戶界面幫助用戶創建自定義配方。TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K專為需要精確控制和可重復性的應用而設計，包括高k材料和納米尺度晶體管。該模型適合於提供經濟高效、可靠和高產的制成品，具有卓越的工藝重復性和均勻性。該設備非常適合制造高性能半導體器件和組件。