二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9263878 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K
ID: 9263878
晶圓大小: 12"
優質的: 2013
LPCVD Furnaces, 12" Mid temperature heater: VCM-50-012L 2013 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K(或FormulAlD)是為半導體制造工藝而設計的先進蝕刻器/asher。該產品是一個批量級、自給自足的設備,能夠提供先進的蝕刻和灰化能力,以滿足先進的半導體光刻生產需求。FormulAlD系統具有經過優化的雙腔室體系結構,包括專利調制幹蝕刻腔和性能卓越的蝕刻腔室。幹燥蝕刻室允許最大的蝕刻速率,同時盡量減少汙染沈積.該室采用一種專利雙偏置技術,在每個循環中結合三個獨立的頻率控制高頻脈沖,為各種材料提供前所未有的蝕刻速率。第一個脈沖用作預清洗過程,第二個和第三個脈沖提供精確、可重復的蝕刻,蝕刻表面的背襯最小。該室包括一個TEL安裝的蝕刻顯示器,具有實時監測和配方跟蹤功能。第二室是針對先進金屬和絕緣體材料進行了優化的先進灰化室。利用包括溫度快速升高、兩步加熱和快速冷卻過程在內的三級工藝,Asher能夠蝕刻高達2000 nm/min的速率。腔室還利用一個非侵入性的直接測溫裝置,在灰化過程中不斷監測晶圓的溫度。此過程確保了均勻的灰化輪廓,且表面地形沒有變化。除了雙室架構外,FormulAlD機還具有眾多技術,如可選的等離子體循環電路和sub-2 µm粒徑控制。粒度控制設定點是可調的,加上3微米原位清洗工具,資產能夠極低的汙染水平。此外,該模型還具有可選的集成抗蝕劑條帶通道,用於晶圓表面的後蝕刻控制。FormulAlD設備是市場上唯一的同類高級蝕刻器/灰化器。該系統能夠對多種材料進行高級蝕刻和灰化,以滿足最嚴格的幾何要求,是大批量生產線的理想選擇。該設備已在多個應用程序中進行了測試和驗證,可提供可靠的性能以及更高的工作效率。
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